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中高溫集熱管鍍膜生產(chǎn)線

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更新時(shí)間:2024-05-30 10:59:43瀏覽次數(shù):103

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產(chǎn)品簡介

Φ70x4060集熱管鍍膜生產(chǎn)線,產(chǎn)線主體Φ1500x6000水冷真空腔室4段,依次為預(yù)處理室、工藝1室、工藝2室和出樣室;產(chǎn)線配移動(dòng)式公自轉(zhuǎn)工裝架及工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng),工裝架裝載量20只(Φ70);工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng)由橫移車及直線輸送線組成,在閉環(huán)輸送系統(tǒng)中工裝架自動(dòng)運(yùn)行。預(yù)處理室、工藝1室?guī)Ъ訜?,加熱溫?00℃。工藝1室配2只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶,接直流電源用于沉積底層金屬,工藝2室配2對孿生......

詳細(xì)介紹

  一、設(shè)備特點(diǎn):

  Φ70x4060集熱管鍍膜生產(chǎn)線,產(chǎn)線主體Φ1500x6000水冷真空腔室4段,依次為預(yù)處理室、工藝1室、工藝2室和出樣室;產(chǎn)線配移動(dòng)式公自轉(zhuǎn)工裝架及工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng),工裝架裝載量20只(Φ70);工裝架閉環(huán)輸送系統(tǒng)由橫移車及直線輸送線組成,在閉環(huán)輸送系統(tǒng)中工裝架自動(dòng)運(yùn)行。預(yù)處理室、工藝1室?guī)Ъ訜?,加熱溫?00℃。工藝1室配2只圓柱靶或內(nèi)裝平面靶,接直流電源用于沉積底層金屬,工藝2室配2對孿生靶接中頻電源;沉積AL、Ti、Si等構(gòu)成的多層陶瓷本征吸收層;系統(tǒng)除裝卸件外,均自動(dòng)運(yùn)行,自動(dòng)化程度較高,滿足光干涉膜、金屬陶瓷膜等選擇性吸熱膜的批生產(chǎn)需要。

  二、性能參數(shù):

  1. 生產(chǎn)線尺寸:36655(L)X17500(W)X7000(H)

  2. 集熱管尺寸:直徑范圍Φ70-120, 長度4060;

  3. 集熱管性能:吸收率≥95%  發(fā)射率 ≤9%(300℃);

  4. 設(shè)備產(chǎn)能:5萬支/年(20只裝);

  5. 極限真空:8x10-4Pa,本底真空:3.2x10-3Pa;

  6. 工藝加熱溫度(預(yù)處理室、工藝1室):300℃ 鎧裝加熱組件;

  7. 磁控靶位:工藝1室:2只;工藝2室:2對孿生靶;

  8. 磁控電源:直流  2套     中頻   2套;

  9. 真空系統(tǒng):分子泵/前級機(jī)組+羅茨粗抽機(jī)組;

  10. 工藝氣體:3路,MFC;反應(yīng)氣體6段供氣,各獨(dú)立可控;

  11. 隨行工裝架數(shù)量:6套(20只裝);

  12. 真空腔室隔離閥:Φ1500氣動(dòng)插板閥  4套;

  13. 控制系統(tǒng):PC+PLC控制模式,自動(dòng)/手動(dòng)/修理調(diào)試功能轉(zhuǎn)換;多種工藝參數(shù)儲存,多種互鎖安全保護(hù);

  14. 系統(tǒng)水電氣:總裝機(jī)功率:約830KW

  冷卻循環(huán)水量:80-100M3/H

  壓縮空氣耗量:2M3/H

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