多靶位立式磁控濺射鍍膜機

　　一、應(yīng)用領(lǐng)域：

　　該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

　　二、性能參數(shù)

　　1. Φ1000x700水冷真空腔體，側(cè)開門，樣品架公自轉(zhuǎn);

　　2. 頂部和側(cè)面布置有濺射靶位8個;

　　3. 6″直流靶6只，每只各配3KW直流電源1套;

　　4. 6″射頻靶2只，各配1.5KW射頻電源1套;

　　5. 系統(tǒng)配考夫曼離子源用于工件清洗;

　　6. 腔室可加熱，加熱溫度300℃。

　　7. 極限真空：5x10^-4Pa。