多弧+磁控濺射復(fù)合鍍膜機(jī)

　　一、應(yīng)用領(lǐng)域：

　　該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進(jìn)行反應(yīng)濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

　　二、性能參數(shù)：

　　1. Φ500x500立式水冷腔體，

　　2. 配DN100多弧靶3只，4″平面圓靶1只；

　　3. 平面靶配1000w射頻電源；系統(tǒng)可加偏壓，偏壓電源為脈沖直流，功率2000W；

　　4. 工藝加熱溫度500℃，

　　5. 樣品架公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-50rpm可調(diào)；

　　6. 系統(tǒng)配4路MFC工藝氣體。