詳細(xì)介紹
XRD-Mill McCrone專為X射線衍射(XRD)分析的樣品制備而研發(fā),主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。
XRD-Mill McCrone具有的研磨方式:研磨塊的運動為線性撞擊和平面剪切兩種方式,所以研磨時間短,幾乎沒有樣品損失,得到特別窄的粒徑分布。
晶格在研磨過程中幾乎保留。
研磨容器是一個125 ml容量的聚丙烯罐,配一個無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個有序排列的圓柱形研磨塊充滿,材質(zhì)有瑪瑙,氧化鋯和剛玉。的磨時間是在3-30分鐘,典型的樣品體積是在2-4 ml之間。
應(yīng)用實例
硼化物,粘土,云母,氮化物,石板, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 礦物, 碳化物, 金屬, 陶瓷, 骨頭
優(yōu)點
研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運行安靜。
性能指標(biāo)
應(yīng)用 | 搗磨、混和與研磨制樣;干磨或濕磨 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | X-ray diffraction |
樣品特征 | 中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
進(jìn)樣尺寸 | <0.5毫米 |
最終出料粒度 * | < 1 µm |
網(wǎng)頻50赫茲(60赫茲)下的轉(zhuǎn)速 | 1,000 - 1,500 min-1 4步 |
研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 1 |
典型粉碎時間 | 3 - 30 min |
干磨 | 是 |
濕磨 | 是 |
低溫研磨 | - |
研磨套件材料: | 瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
研磨罐尺寸 | 125 ml |
粉碎時間設(shè)定 | 數(shù)字顯示,00:00:01 至 99:59:50 |
驅(qū)動 | DC-Motor |
驅(qū)動功率 | 50W |
電源數(shù)據(jù): | 220-240 V, 50/60 Hz |
電源接頭: | 單相 |
防護(hù)類型 | IP 30 |
接受功率 | 100W |
機體尺寸(寬x高x縱深) | 205 x 155 x 520 mm |
凈重 | ~19 kg |
標(biāo)準(zhǔn) | CE |
性能指標(biāo)
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排,每排6件。
在運行過程中,罐子做圓周運動,研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平(通常小于10 um)。
由于研磨過程很溫和,所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的。