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氣體保護制氮機

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更新時間:2024-06-07 08:30:07瀏覽次數:205

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產品簡介

工藝流程簡介環(huán)境空氣經壓縮凈化,除去油、水、塵后,進入由兩個裝填有碳分子篩的吸附塔組成的變壓吸附裝置

詳細介紹

工藝流程簡介

環(huán)境空氣經壓縮凈化,除去油、水、塵后,進入由兩個裝填有碳分子篩的吸附塔組成的變壓吸附裝置。壓縮空氣由下至上流經吸附 塔,其間氧分子在碳分子篩表面吸附,氮氣由吸附塔上端流出,進入粗氮緩沖罐,經過一段時間后,吸附塔中碳分子篩被吸附的氧飽和,需進行再生。再生是通過停止吸附步驟,降低吸附塔壓力來實現的。兩個吸附塔交替進行吸附和再生,從而確保氮氣的連續(xù)輸出。


變壓吸附制氮裝置工藝流程圖

圖片7.png


技術特點

1、原料空氣取自自然,只需提供壓縮空氣和電源即可制氮氣。設備能耗低,運行成本費用少。

2、氮氣純度調整方便,氮氣純度只受氮氣排氣量的影響,普通制氮純度在90%-99.999%之間任意調節(jié);高純度制氮機可在99%-99.999%之間任意調節(jié)。

3、設備自動化程度高,產氣快,可無人值守。啟動、關機只需按一下按鈕,開機20-40分鐘內即可產生氮氣。

4、設備工藝流程簡單,設備結構外形緊湊,占地面積小,設備裝置適應性強。

5、暴風雪法裝填分子篩,避免高壓氣流沖擊導致分子篩粉化現象,確保分子篩長時間使用。

6、數顯流量計帶壓力補償、高精度的工業(yè)過程監(jiān)控二次儀表,具有瞬時流量及累積計算的功能。

7、在線分析儀濃度檢測,高精度,免維護。

8、不合格氣動自動放空,無需人為,保證工作效率。

9、可設計不合格純度報警,

10、預留PLC的通訊接口(RS485),與買方上位機通訊。

技術指標參數:

流量:3~2000nm3/hr

純度:95-99.999%

壓力:0.01-0.8Mpa(以內可調)

露點:-45

氧含量:5ppm

過濾精度:0.001ppm


型號

流量(m3/hr

純度(%)

高純度(%

壓力(Mpa)

動力來源

工藝

露點(

低露點(

產成品

XTFD-10

10

95

99.9995

0.8

天然空氣

PSA

變壓吸附式

-45

-70

氮氣

XTFD-20

20

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-30

30

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-50

50

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-100

100

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-200

200

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-300

300

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-500

500

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-1000

1000

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-1500

1500

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣

XTFD-2000

2000

95

99.9995

0.8

-45

-70

氮氣



行業(yè)應用范圍

1、半導體封裝行業(yè)應用
用氮氣封裝、燒結、退火、還原、儲存。宏博變壓吸附制氮機協助業(yè)類各大廠家

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