EDI高純水系統(tǒng)

EDI設備的原理：

供給原水進入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿膜板外側流動，以洗去透出膜外的離子

被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動

陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外

陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外

濃縮了的離子從廢水流路中排出。

無離子水從樹脂/膜內流出。

EDI設備簡介：

EDI又稱邊續(xù)電除鹽技術，它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體，通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生，因此EDI制水過程不需要酸、堿化學藥品再生即可連續(xù)制取高品質超純水，它具有技術、結構緊湊、操作簡便的優(yōu)點，可廣泛應用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領域，是水處理技術的綠色革命。通常把EDI與反滲透及其它的凈水裝置結合在一起從水中去除離子。EDI組件可以連續(xù)地生產超純水，電阻率高達18.2Ω. cm.EDI可以連續(xù)地運行也可以間歇地運行。

EDI設備的有點：

出水水質具有的穩(wěn)定度

能連續(xù)生產出符合用戶要求的超純水

模塊化生產，并可實現(xiàn)全自動控制

不需酸堿再生，無污水排放

不會因再生而停機

無需再生設備和化學藥品儲運

設備結構緊湊，占地面積小

運行成本和維修成本低

運行操作簡單，運動強度低

電子級水是制造電子元器件工藝過程中所用的高純水。

主要用途：

n 超純材料和超純試劑的生產和清洗

n 電子產品的生產和清洗

n 電池產品的生產

n 半導體產品的生產和清洗

n 電路板的生產和清洗

n 其他高科技精細產品的生產

產水水質：分為四個級別

n EW-Ⅰ：18MΩ?cm（95%時間不低于17MΩ?cm）

n EW-Ⅱ：15MΩ?cm（95%時間不低于13MΩ?cm）

n EW-Ⅲ：12MΩ?cm

n EW-Ⅳ：0.5MΩ?cm

主要制水工藝：

n 預處理+陽床+陰床+混床（傳統(tǒng)工藝）

n 預處理+（單/雙級）反滲透+混床（傳統(tǒng)工藝）

n 預處理+（單/雙級）反滲透+EDI電除鹽（流行工藝）

n 預處理+雙級反滲透+EDI電除鹽+拋光混床（流行工藝）

設備特點：

利用膜工藝生產電子級水，不僅可以確保處理后的水達到中國國家電子級超純水規(guī)格 GB/T 11446.1-1997標準，而且避免了傳統(tǒng)方法可能造成的環(huán)境污染，操作復雜，并能有效地降低水處理成本。