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頭孢混懸液膠體磨/混懸液研磨機(jī)在北京驗(yàn)收合格

閱讀:602          發(fā)布時(shí)間:2017-6-27

混懸液膠體磨,口服混懸液膠體磨,外用混懸液膠體磨,注射混懸液膠體磨,阿苯達(dá)唑混懸液膠體磨,安達(dá)鋁鎂加混懸液膠體磨,布地奈德混懸液膠體磨,布洛芬混懸液膠體磨,蒙脫石混懸液膠體磨,多潘立酮混懸液膠體磨,磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨

 

混懸液藥劑是指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非勻相的液體藥劑。對(duì)于混懸液藥劑的制備有嚴(yán)格的規(guī)定:藥物本身的化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,在使用或貯存期間含量應(yīng)符合要求;混懸劑中微粒大小根據(jù)用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度應(yīng)很慢、沉降后不應(yīng)有結(jié)塊現(xiàn)象,輕搖后應(yīng)迅速均勻分散;混懸劑應(yīng)有一定的粘度要求;外用混懸劑應(yīng)容易涂布等。

 

 

混懸劑穩(wěn)定性影響因素:

1.粒子沉降----通過(guò)stokes沉降方程可知,粒子半徑越大,介質(zhì)粘度越低,沉降速度越快.為保持穩(wěn)定,應(yīng)減小微粒半徑,或增加介質(zhì)粘度(助懸劑)。

2.荷電與水化膜-----雙電層與水化膜能保持粒子間斥力,有助于穩(wěn)定.如雙電層zeta電位降低,或水化膜破壞,則粒子發(fā)生聚沉.電解質(zhì)容易破壞zeta電位和水化膜。

3.絮凝與反絮凝----適當(dāng)降低zeta電位,粒子發(fā)生松散聚集,有利于混懸劑穩(wěn)定.能形成絮凝的物質(zhì)為絮凝劑。

4.結(jié)晶-----放置過(guò)程中微粒結(jié)晶,結(jié)晶成長(zhǎng),形成聚沉。

5.分散相溫度----- 溫度降低使布朗運(yùn)動(dòng)減弱,降低穩(wěn)定性.故應(yīng)保持合適的溫度。

 

 

若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。加入表面活性劑可以降低界面自由能,使系統(tǒng)更加穩(wěn)定,而且表面活性劑由可以作為潤(rùn)濕劑,可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān),若加入適量的絮凝劑(電解質(zhì))使顆粒ζ電位降至一定程度,微粒就發(fā)生絮凝,混懸劑相對(duì)穩(wěn)定,絮凝沉淀物體積大,振搖后易再分散。加入反絮凝劑電解質(zhì))可以增加已存在固體表面的電荷,使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。  

 

膠體磨CM2000三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果膠體磨CM2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 

 

膠體磨CM2000結(jié)構(gòu)機(jī)理:由電動(dòng)機(jī)、連接體、磨頭等組成,磨盤(pán)采用不銹鋼鍛壓制成,磨盤(pán)表面有三個(gè)以上溝槽,分為三級(jí)。每一級(jí)的溝槽刀齒數(shù)量、方向及寬度不同,越是向外延伸一級(jí),磨片精度越高、齒距越小、線速度越長(zhǎng)、物料越磨越細(xì)、刀齒的數(shù)量越多、剪切面越大、線速度越長(zhǎng)、流體速度越快、細(xì)化效果越好。機(jī)械密封分:硬質(zhì)內(nèi)裝機(jī)械密封、外裝雙面硬質(zhì)機(jī)械密封、金屬波紋硬質(zhì)機(jī)械密封等三種密封可選。磨盤(pán)刀齒根據(jù)需要可以進(jìn)行特殊氮化處理,增強(qiáng)刀齒的硬度,起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉(zhuǎn)磨與定磨可根據(jù)物料粘度、產(chǎn)量、顆粒細(xì)度進(jìn)行手工調(diào)節(jié),其功效為剪切率大、線速度長(zhǎng)、*、處理量大、均質(zhì)細(xì)化效果好。

 

膠體磨CM2000系列的特點(diǎn):

①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。CM2000系列設(shè)備選型表:

型號(hào)流量L/H輸出轉(zhuǎn)速rpm線速度m/s馬達(dá)功率KW出/入口連接
CM2000/47009,000232.2DN25/DN15
CM2000/53,0006,000237.5DN40/DN32
CM2000/108,0004,2002315DN50/DN50
CM2000/2020,0002,8502337DN80/DN65
CM2000/3040,0001,4202355DN150/DN125
CM2000/5080,0001,10023110DN200/DN150

 

 1、表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2、處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3、如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

4、本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。

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