詳細(xì)介紹
氧化還原石墨研磨分散機(jī),氧化還原石墨烯剝離分散設(shè)備,蠕蟲石墨烯剝離研磨分離機(jī)?,氧化還原石墨研磨分散機(jī),氧化還原石墨分散機(jī),氧化還原石墨烯分散設(shè)備,石墨烯分散機(jī),納米石墨分散機(jī),分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標(biāo)是在連續(xù)相中實(shí)現(xiàn)“令人滿意的”精細(xì)分布。(同)
薄片是石墨粉末經(jīng)化學(xué)氧化及剝離后的產(chǎn)物,氧化石墨烯是單一的原子層,可以隨時(shí)在橫向尺寸上擴(kuò)展到數(shù)十微米,因此,其結(jié)構(gòu)跨越了一般化學(xué)和的典型尺度。氧化石墨烯可視為一種非傳統(tǒng)型態(tài)的軟性材料,具有聚合物、膠體、薄膜,以及兩性分子的特性。氧化石墨烯*以來被視為親水性物質(zhì),因?yàn)槠湓谒芯哂?的分散性,但是,相關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,氧化石墨烯實(shí)際上具有兩親性,從石墨烯薄片邊緣到*呈現(xiàn)親水至疏水的性質(zhì)分布。因此,氧化石墨烯可如同界面活性劑一般存在界面,并降低界面間的能量。
氧化-還原法是指將天然石墨與強(qiáng)酸和強(qiáng)氧化性物質(zhì)反應(yīng)生成氧化石墨(GO),經(jīng)過超聲分散制備成氧化石墨烯,然后加入還原劑去除氧化石墨表面的含氧基團(tuán)后得到石墨烯。氧化-還原法制備成本較低容易實(shí)現(xiàn),成為生產(chǎn)石墨烯的主流方法。但是該方法所產(chǎn)生的廢液對(duì)環(huán)境污染比較嚴(yán)重,所制備的石墨烯一般都是多層石墨烯或者石墨微晶而非嚴(yán)格意義上的石墨烯,并且產(chǎn)品存在缺陷而導(dǎo)致石墨烯部分電學(xué)和力學(xué)性能損失。
氧化還原石墨研磨分散機(jī),氧化還原石墨一般是添加在NMP中,公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn),跟常州、無(wú)錫、長(zhǎng)春、寧波、濰坊、深圳、青島、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。更多信息請(qǐng)段。
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一般國(guó)內(nèi)或者石墨烯會(huì)用砂磨機(jī)或者球磨機(jī) 超聲波分散機(jī)等等? 球磨機(jī)或者砂磨機(jī)他們偏重研磨,會(huì)破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。我們的研磨分散機(jī)偏重、分散剝離 。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn),只是作為一種輔助分散。
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤(rùn)濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
氧化還原石墨研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 ,公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn)
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)*的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。
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