詳細(xì)介紹
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一八零 一八五四 二七九五(你懂得)
納米二氧化硅分散在多個(gè)領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用,如:改性樹(shù)脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。IKN研磨分散機(jī)*的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應(yīng)對(duì)于納米級(jí)物料的分散,先研磨后分散,避免團(tuán)聚,分散效果好。
對(duì)于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn),納米分散存在著難以解決的問(wèn)題,納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級(jí)團(tuán)聚體,導(dǎo)致物料粒徑變大,難以分散。面對(duì)這種情況,IKN研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機(jī),應(yīng)對(duì)納米物質(zhì)的分散問(wèn)題。并有著廣泛的實(shí)例,如納米級(jí)白炭黑的分散,納米級(jí)石墨烯的分散,都在使用IKN研磨分散機(jī)進(jìn)行分散處理,*。納米二氧化硅高速剪切研磨分散機(jī),氣相二氧化硅高剪切分散機(jī),管線式連續(xù)分散機(jī)?,納米二氧化硅研磨分散機(jī),納米二氧化硅分散機(jī),納米研磨分散機(jī),納米分散機(jī),二氧化硅分散機(jī),德國(guó)納米分散機(jī),納米高速分散機(jī)
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。 一八零 一八五四 二七九五(你懂得)
納米研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
納米二氧化硅研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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