鹽酸曲美他嗪膠囊膠體磨，鹽酸曲美他嗪膠囊研磨分散機(jī)，鹽酸曲美他嗪膠囊均質(zhì)機(jī)

鹽酸曲美他嗪膠囊膠體磨，鹽酸曲美他嗪膠囊研磨分散機(jī)，鹽酸曲美他嗪膠囊均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥乳液高速膠體磨，軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，軟膠囊內(nèi)容物膠體磨  改良型膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨，此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達(dá)21000rpm，并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤，先研磨后分散，物料粒徑更細(xì)，更穩(wěn)定！ 

軟膠囊制劑多用于非水溶性、對(duì)光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴(yán)密、用量精確、生物利用度高，藥物的穩(wěn)定性也得到提升，此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實(shí)驗(yàn)證明，口服制劑的生物利用度，以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊，混懸液次之，再次為含顆粒的硬膠囊，zui差為片劑。 

近年來，超微粉碎技術(shù)逐漸應(yīng)用到軟膠囊領(lǐng)域，通過研究發(fā)現(xiàn)，藥材經(jīng)過超微化粉碎后，粉末粒徑大小分布均勻，球性度和均質(zhì)度明顯改善，這些細(xì)粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當(dāng)中，質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展，對(duì)于膠囊的內(nèi)容物的處理，出現(xiàn)的大量的設(shè)備，如：膠體磨、均質(zhì)機(jī)、分散機(jī)等。這些設(shè)備通過對(duì)內(nèi)容物的剪切，從內(nèi)容物粒徑更加細(xì)化，粉末分散更加均勻。而上海IKN應(yīng)對(duì)這種情況，研發(fā)出了的設(shè)備，改良性膠體磨，該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)，將二者一體，形成的設(shè)備，我們也將它定義為“研磨分散機(jī)”。 


IKN改良型膠體磨，IKN研磨分散機(jī)，對(duì)于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢(shì)，對(duì)于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效，無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液，都可以將物料充分的細(xì)化，提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭，IKN改良型膠體磨，研磨分散機(jī)，有一級(jí)膠體磨頭和一級(jí)分散盤，對(duì)物料先研磨后分散機(jī)，再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速，乳液粒徑一般可細(xì)化至1-2微米，混懸液一般可細(xì)化至3-5微米，當(dāng)然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。 

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 
    
          
  鹽酸曲美他嗪膠囊膠體磨，鹽酸曲美他嗪膠囊研磨分散機(jī)，鹽酸曲美他嗪膠囊均質(zhì)機(jī)CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由膠體磨，分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。 

線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨 
②  定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。 
③  定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 
④  在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 
⑤  高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 




CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 



研磨分散機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域： 

化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤(rùn)滑油、潤(rùn)滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦bai粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。        

食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、果茶、芝麻、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋bai粉 ，豆粕酶解等 
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級(jí)化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營(yíng)養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動(dòng)物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 
新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤(rùn)滑油等等 



膠體磨磨頭 CM2000膠體磨 
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí) 
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、 
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型 
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷 
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車 
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理 
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍 
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。 
，醫(yī)藥乳液高速膠體磨，軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機(jī)，軟膠囊內(nèi)容物膠體磨  改良型膠體磨，醫(yī)藥混懸液膠體磨