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醫(yī)藥研磨機,醫(yī)藥納米研磨機,德國進(jìn)口醫(yī)藥無菌研磨機,實驗室研磨設(shè)備

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  • 型號 CMX2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時間:2017-06-29 13:57:01瀏覽次數(shù):1854

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產(chǎn)品簡介

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詳細(xì)介紹

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醫(yī)藥研磨分散機

干磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生XX性混合物的物質(zhì)時,這一點尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等級通常需要精心設(shè)計的技術(shù)解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本。 
詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) 
用轉(zhuǎn)子-定子裝置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

  • 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。
  • 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。
  • 相對干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,并且取得了良好的效果,因為它非常適用于API(活性藥用成分)。 

IKN分散機可直接結(jié)合到物質(zhì)合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時進(jìn)行,從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時間以外,需要的系統(tǒng)數(shù)量和接觸產(chǎn)品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機的好處使其成為具有吸引力的投資產(chǎn)品。 

INA濕磨機基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大,可實現(xiàn)10 μm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機被用于諸多應(yīng)用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。 
 

醫(yī)藥研磨分散機如研磨 各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮

 

磺胺嘧啶混懸液      復(fù)方磺胺甲噁唑口服混懸液   磺胺二甲嘧啶混懸  液硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

 棕櫚氯霉素混懸液   布洛芬口服混懸液   復(fù)方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液   硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液(1...

布洛芬混懸液   硫糖鋁混懸液  

棕櫚氯霉素混懸液   鋁鎂混懸液

頭孢克洛混懸液    蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液   右美沙芬緩釋混懸液

苯酰甲硝唑混懸液   依托紅霉素混懸液

硫酸鋇混懸液   布洛偽麻混懸液    對乙酰氨基酚混懸液

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他們不外乎兩點,一方面是混懸液中的顆粒過大,容易分成 ,而是研磨效果差,但不到應(yīng)有的藥物功效

 

研磨分散機的結(jié)構(gòu)  

一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將多級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將多級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

1  線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

IKN 藥物研磨分散的效果主要是可他們呢內(nèi)部結(jié)構(gòu)  

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) 

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 

所以搞得轉(zhuǎn)速和精密磨非常重要

 

醫(yī)藥研磨分散機的額參數(shù)型號

磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

400

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

72,200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

2,850

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

1,420

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

 

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