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IKN濕法研磨機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

濕磨機的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。

CMD2000系列高剪切濕磨機是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CMD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

從設(shè)備角度來分析， 影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

1.濕磨機磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2.濕磨機頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

3.物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

4.循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

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線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)

              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

型號        流量

L/H          轉(zhuǎn)速

rpm         線速度詳情請接洽上海依肯,段，手機， ，公司有樣機供客戶實驗

m/s         功率

kw           入/出口連接

DN

CMD2000/4           300         9000       23           2.2          DN25/DN15

CMD2000/5           1000       6000       23           7.5          DN40/DN32

CMD2000/10         2000       4200       23           22           DN80/DN65

CMD2000/20         5000       2850       23           37           DN80/DN65

CMD2000/30         8000       1420       23           55           DN150/DN125

CMD2000/50         15000     1100       23           110         DN200/DN150

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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