詳細介紹
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流體研磨分散機簡介
流體物料的一大特點就是必須要有液體介質(水或者油),從而形成乳液或者混懸液。也就是必須是濕法研磨,物料要有良好的流動性。這樣可以更好的細化物料的粒徑,以及物料體系更加的均勻穩(wěn)定。
CMD2000系列流體研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
IKN流體研磨分散設備的結構
CMD2000系列流體研磨機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
流體研磨分散機重要用途
①食品工業(yè):果茶、果醬、果汁、豆醬、豆沙、花生奶、乳制品、各種飲料等。
②化學工業(yè):油漆、顏料、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、洗滌劑等。
③日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。
④醫(yī)藥工業(yè):中成藥、蜂皇漿、疫苗、藥膏、口服液、混懸注射液、脂肪乳等。
⑤建筑工業(yè):各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質環(huán)保的生產需要。
德國流體設備專家,流體研磨分散機,流體研磨機,流體分散機,流體膠體磨的特點
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列流體研磨分散機,流體研磨機,流體分散機,流體研磨設備選型表
研磨分散機 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
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CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到允許量的10%。 |
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