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高品相鎳粉高剪切研磨分散機(jī),高品相鎳粉分散設(shè)備

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  • 高品相鎳粉高剪切研磨分散機(jī),高品相鎳粉分散設(shè)備

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  • 型號(hào) CMSD2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時(shí)間:2017-07-18 16:24:00瀏覽次數(shù):367

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詳細(xì)介紹

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鎳粉,性狀:呈灰色不規(guī)則狀粉末,在潮濕空氣中易氧化。用途:主要用于涂料和塑料作導(dǎo)電顏料屏蔽電磁干涉及射頻干涉,作各種高光澤裝飾漆和塑料,代替鋁粉在水性體系作防腐蝕漆等,細(xì)顆粒球形鎳粉可用于導(dǎo)電的油墨。

金剛石工具鎳粉介紹(金屬胎體合金粉末): 金屬結(jié)合劑是決定金剛石鋸片,刀頭,磨輪,薄壁鉆等產(chǎn)品的質(zhì)量關(guān)鍵因素之一,在金剛石確定以后,金屬結(jié)合劑的質(zhì)量就成了決定因素,鈷粉和鎳粉都可以作為主粘結(jié)劑,但鈷粉的價(jià)格較高。在金剛石工具中,胎體指包裹,金剛石的金屬燒結(jié)體,胎體的作用是把持金剛石,使其起到切割的作用,而不會(huì)過(guò)早地脫落掉.胎體一般由多種金屬元素組成,主要采用低熔點(diǎn)金屬粉作為粘結(jié)劑,比如鎳粉等。

 

 

鎳粉有著廣泛的應(yīng)用,所以,高品相鎳粉的研磨與分散必須選擇高品質(zhì)的研磨分散設(shè)備,才能保證鎳粉的細(xì)度和均勻度,IKN研磨分散機(jī)先研磨后分散,避免團(tuán)聚,粒徑一般可細(xì)化至DN90≤5μm,粒徑更細(xì),產(chǎn)品更均勻。

 
高品相鎳粉高剪切研磨分散機(jī),高品相鎳粉分散設(shè)備CMSD2000系列高品相鎳粉高剪切研磨分散設(shè)備是IKN公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

 

CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

 

IKN研磨分散設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

300

14,000

44

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10,500

44

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

3000

7,300

44

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

8000

4,900

44

37

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2,850

44

55

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

2,000

44

110

DN200/DN150

 

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