粉底液超高速研磨分散機,粉底液膠體磨

粉底液超高速研磨分散機,粉底液膠體磨，粉底液研磨設(shè)備,乳液研磨機,化妝品研磨設(shè)備，IKN研磨分散機

 【粉底液的簡介】 
   粉底液 主要作用是均勻膚色，調(diào)整肌膚顏色，讓肌膚看起來更自然均勻。其次，粉底液也具有一定的遮力。特別是對于細(xì)紋和色斑，粉底液將會很有效的遮蓋類似瑕疵，讓肌膚看起來更健康自然.要想得到高品質(zhì)的粉底液，就必須充分細(xì)化粉底液的粒徑

                                  
【粉底液超高速研磨分散機,粉底液膠體磨的簡述】
     粉底液研磨分散機,粉底液分散機,粉底液膠體磨 采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了*水平。

  上海依肯機械設(shè)備IKN管線式高剪切研磨分散機是由IKN研發(fā)工程師于2013年新研發(fā)的一款用于物料精細(xì)研磨，分散，乳化，均質(zhì)的高精度設(shè)備，高剪切研磨分散機結(jié)合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質(zhì)乳化機的高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速zui高可達(dá)14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

  是 IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們 將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物 料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

【粉底液超高速研磨分散機的工作原理】 
   粉底液研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外 部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有 效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。 

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

【粉底液研磨分散機的特點】   
   CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精 細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和 結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。