脫模劑乳化機，脫模劑研磨分散機

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 【脫模劑的簡介】
 
    脫模劑是一種介于模具和成品之間的功能性物質。脫模劑有耐化學性，在與不同樹脂的化學成份（特別是苯乙烯和胺類）接觸時不被溶解。脫模劑還具有耐熱及應力性能，不易分解或磨損；脫模劑粘合到模具上而不轉移到被加工的制件上，不妨礙噴漆或其他二次加工操作。由于注塑、擠出、壓延、模壓、層壓等工藝的迅速發(fā)展，脫模劑的用量也大幅度地提高。

 【脫模劑的成分】

   以水基型脫模劑為例，脫模劑的基本組分：石蠟5～20份，硬脂酸5～8份，植物油5～10份，助乳化劑5～8份，氫氧化鉀計算量，其他輔料適量，尼泊金乙酯適量，去離子水至100份。要想生產出高品質的脫模劑產品，zui重要的是要乳化效果要好，要將物料充分細化，然后形成均勻穩(wěn)定的乳液，上海IKN研磨分散機可以先將物料充分細化，然后進行均質乳化。根據客戶反映脫模劑研磨的越細物料越稀，在依肯現場客戶實驗，研磨后的狀態(tài)比研磨前的狀態(tài)更加細膩、產品更稀。

                      
【脫模劑乳化機，脫模劑研磨分散機的簡介】

CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

【CMD2000系列的結構】

研磨式分散機是由錐體磨+分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
                     

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

【CMD2000系列研磨分散機的特點】

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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