納米粉體研磨分散機 德國制造

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納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

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納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達到人們預(yù)期的效果。

               

所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。

目前對于納米粉體的分散，一般采用以下幾種設(shè)備：

一、超聲分散機，超聲方式分散，對于小批量的物料還行，但無法放大生產(chǎn)。
二、機械攪拌分散機，這種在工業(yè)化分散中比較常見，但是由于自身的結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速低，分散有死角，導(dǎo)致zui終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機，這種分散機適合高粘度的物料的分散，電機功率大，但是也存在和機械攪拌分散機一樣的問題，分散效率低，效果差。

隨著納米粉體分散的進一步發(fā)展，上海IKN研發(fā)出的分散設(shè)備-研磨分散機。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子，先研磨打開團聚體，在瞬時通過分散工作組進行分散，分散效率快，分散效果好。

 

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IKN研磨分散機在納米粉體的分散中有著突出的應(yīng)用和優(yōu)勢，如納米氫氧化鎂、納米氫氧化鋁、石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫(yī)藥納米混懸液等都有著成功的經(jīng)驗和案例。更多信息請包。

IKN研磨分散機的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團聚的問題。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

   

CMD2000系列納米粉體研磨分散機的結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 
CMD2000系列納米粉體研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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