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三溫區(qū)卷對卷連續(xù)石墨烯薄膜生長設備

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更新時間:2017-02-22 15:19:56瀏覽次數(shù):993

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產(chǎn)品簡介

基于廣大科研界對實現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對卷宏量制備的需求,我公司開發(fā)出一種新的卷對卷連續(xù)快速生長石墨烯薄膜的方法,設計并研制了可達到中試水平的石墨烯卷對卷化學氣相沉積系統(tǒng),通過對石墨烯成核與生長的調(diào)控實現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長;此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續(xù)生長爐,它由高溫生長腔體,三路質(zhì)量流量計氣路系統(tǒng),真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,

詳細介紹

 

 

額定功率

KW

7

額定電壓

V

AC 208-240V 50/60 Hz

zui高溫度

1200

持續(xù)工作溫度

≤1100℃

*升溫速率

℃/min

≤30℃/min

爐管尺寸

mm

高純石英管Φ80×1820mm(可使用基底銅箔寬度≤60mm)(其他尺寸可定制

加熱區(qū)長度

mm

300+300+300

恒溫區(qū)長度

mm

600

控溫方式

人機界面加PLC控制,10寸液晶屏控制,數(shù)字工控儀表雙控,采用工業(yè)智能控溫儀表和軟件實現(xiàn)雙控,采用模糊型PID控制。

無紙記錄

1、內(nèi)置存儲記錄運行工藝數(shù)據(jù),外接USB接口,可以電腦連接一鍵拷貝數(shù)據(jù)。

2、系統(tǒng)采用自動化工藝流程,設定好工藝一鍵操作。降低人為因素,工藝可靠性可以達到99.9%。

控溫精度

±1

加熱元件

進口電阻絲

真空進料腔

進料進氣真空腔室與出料排氣腔體外殼以亞克力為主要材料,電機帶動銅箔在密閉生長條件下運動,并通過冷卻裝置后收緊成卷。

氣路系統(tǒng)配制

內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計可準確的控制氣體流量;設有靜態(tài)混氣室,有助于氣體充分混合,按要求配比。

射頻電源配制

RF射頻電源等離子輔助模塊,大大降低了石墨烯的生長溫度,是銅箔的機械強度適合連續(xù)收放

真空系統(tǒng)配制

真空機組內(nèi)含真空泵,數(shù)字真空計以及相關的連接調(diào)節(jié)閥,可提供一個可控的低壓環(huán)境。

認證標準

CE

尺寸(長X寬X高)

mm

3520*1100*1500

凈重

Kg

600

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