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詳細介紹
無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案
主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品：
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數(shù)據(jù)中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內(nèi)循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
光阻回刻刻蝕雙通道chiller 深冷器冷水機
光阻回刻刻蝕雙通道chiller 深冷器冷水機
在當今半導體產(chǎn)業(yè)中，半導體chiller設備的應用越來越廣泛，頂層介質(zhì)刻蝕雙通道chiller在保障設備正常運行和優(yōu)化性能方面發(fā)揮著作用。然而，如何正確選型頂層介質(zhì)刻蝕雙通道chiller呢？
1、明確應用需求
要明確冷水機在半導體設備中的應用需求。這包括但不限于設備的功率、冷卻能力、運行環(huán)境等。在了解這些需求的基礎上，才能選擇合適的冷水機型號。
2、考慮制冷量
頂層介質(zhì)刻蝕雙通道chiller制冷量能夠保證設備在短時間內(nèi)達到預設的溫度，并保持溫度穩(wěn)定。因此，在選型時，應關注設備的冷卻效率及其與設備負荷的匹配程度。
3、考慮設備尺寸和重量
頂層介質(zhì)刻蝕雙通道chiller尺寸和重量也是選型過程中需要考慮的因素。如果設備尺寸過大或重量過重，可能會給安裝、移動和維護帶來困難。因此，在選型時，應根據(jù)實際需求選擇合適尺寸和重量的設備。
4、考慮售后服務
售后服務是購買設備時需要考慮的因素。良好的售后服務能夠保證設備的長期穩(wěn)定運行，減少故障發(fā)生的概率。因此，在選型時，應關注供應商的售后服務能力及其承諾提供的保修期和維修響應時間。
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