IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨

磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱(chēng)為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果?；前范奏奏せ鞈乙? 磺胺二甲嘧啶混懸液是治療肺炎球菌肺炎,流行性腦脊髓膜炎,腦膜炎,神經(jīng)內(nèi)科,呼吸內(nèi)科等疾病的處方藥混懸液的要求 混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面，微粒的分散度較大，使混懸微粒具有較高的表面自由能，故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑，存在更大的穩(wěn)定性問(wèn)題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問(wèn)題，以及提高穩(wěn)定性的措施。 IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨混懸微粒的沉降　　混懸劑中的微粒由于受重力作用，靜置后會(huì)自然沉降，其沉降速度服從Stokes定律：　　按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過(guò)程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見(jiàn)，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比，與分散介質(zhì)的粘度成反比?；鞈椅⒘３两邓俣扔?，混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定性就愈小?！　榱耸刮⒘３两邓俣葴p小，增加混懸劑的穩(wěn)定性，可采用以下措施：①盡可能減小微粒半徑，采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是有效的一種方法。②加入高分子助懸劑，既增加了分散介質(zhì)的粘度，又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差，同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面，形成保護(hù)膜，增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等，減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差，同時(shí)也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低，有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒終總是要沉降的，只是大的微粒沉降稍快，細(xì)小微粒沉降速度較慢，更細(xì)小的微粒由于布朗運(yùn)動(dòng)，可長(zhǎng)時(shí)間混懸在介質(zhì)中。   ，混懸液膠體磨，高剪切膠體磨，立式膠體磨，分體式膠體磨，IKN高剪切膠體磨影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn) 1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）3  物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）4 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）線速度的計(jì)算剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)                  g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知，剪切速率取決于以下因素：轉(zhuǎn)子的線速率在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

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