細胞分離納米材料研磨分散機，生物科研納米材料超微粉碎，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉速研磨分散機

納米技術：

納米技術是指在0.1~100納米的尺度里，研究電子、原子和分子運動規(guī)律的特性以及對物質和材料進行處理的技術。納米材料與生物體在尺寸上有著密切的關系。

納米生物科研材料就是納米材料與生物科研材料的交叉，將納米微粒與其他材料相復合制成各種各樣的復合材料。隨著研究的進一步深入和技術的發(fā)展，納米材料開始與許多學科相互滲透，顯示出巨大的潛在應用價值，特別是核酸與蛋白質的生化、生物物理、生物力學、熱力學與電磁學特征及其智能復合材料已成為生命科學與材料科學的交叉前沿。

病毒尺寸一般約80～100nm，細菌為數百納米，而細胞則更大，因此利用納米復合粒子性能穩(wěn)定、不與膠體溶液反應且易實現(xiàn)與細胞分離等特點，可將納米粒子應用于診療中進行細胞分離。該方法同傳統(tǒng)方法相比，具有操作簡便、費用低、快速、安全等特點。美國科學家用納米粒子已成功地將孕婦血樣中微量的胎兒細胞分離出來，從而簡便、準確地判斷出胎兒細胞中是否帶有遺傳缺陷。

藥物治療上使用的材料：藥物控釋納米材料將繼續(xù)成為納米科研材料研究發(fā)展的重點。納米粒子不但具有能穿過組織間隙并被細胞吸收等特性，而且還具有靶向、緩釋、高效、低毒且可實現(xiàn)口服、靜脈注射及敷貼等多種給藥途徑等優(yōu)點，因而在藥物輸送方面具有廣闊的應用前景。

細胞分離納米材料研磨分散機，生物科研納米材料超微粉碎，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉速研磨分散機

上海依肯研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕锪弦筮M行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前設備轉速的4-5倍。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先x的技術與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用國x先x的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

，納米材料研磨分散機，高剪切研磨分散機，高轉速研磨分散機

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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