新型水丸制丸機(jī)的衛(wèi)生清掃與消毒
制藥設(shè)備要求易于清洗。設(shè)備清洗應(yīng)遵循以下原則:
①有明確的洗滌方法和洗滌周期
②明確關(guān)鍵設(shè)備的清洗驗(yàn)證方法
③清洗過程及清洗后檢查的有關(guān)數(shù)據(jù)要有記錄并保存
④無菌設(shè)備的清洗,尤其是直接接觸藥品的部位和部件必須滅菌,并表明滅菌日期,必要時(shí)要進(jìn)行微生物學(xué)的驗(yàn)證。經(jīng)滅菌的設(shè)備應(yīng)在規(guī)定期限內(nèi)使用。
⑤可移動(dòng)設(shè)備可移到清洗區(qū)進(jìn)行清洗、消毒和滅菌。
⑥同一設(shè)備連續(xù)加工同一無菌產(chǎn)品時(shí),每批之間要清洗滅菌。以上是工藝衛(wèi)生清掃與消毒滅菌的基本要求。通常我們所說的CIP和SIP就是指在線進(jìn)行清洗和蒸汽滅菌的過程。
設(shè)備需要進(jìn)行表面衛(wèi)生清掃,首先我們應(yīng)當(dāng)記?。?/div>
①進(jìn)入潔凈區(qū)的物料必須對其外包裝處理
②流轉(zhuǎn)過程的物料必須密閉
③盛裝物料的容器具必須是經(jīng)過消毒的。我們做設(shè)備的清潔過程,還是對設(shè)備的保養(yǎng)過程,特別要注意防止交叉污染。同時(shí)清掃過程中我們還可以熟悉設(shè)備結(jié)構(gòu)、發(fā)現(xiàn)設(shè)備隱患、消除異物(即清場作用)。
④醫(yī)療設(shè)備工作時(shí)一般要有電源的支持,有的還要水、氣和試劑等,除此之外還要求設(shè)備工作環(huán)境保持一定的溫濕度、良好的接地和電磁屏蔽等。
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