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更新時(shí)間:2024-10-17 09:09:56瀏覽次數(shù):17次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 制藥網(wǎng)真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種
真空鍍膜設(shè)備 |
真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。
使用步驟 一、電控柜的操作
二、DEF-6B電子槍電源柜的操作
三、關(guān)機(jī)順序
適用范圍
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