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硅片顯影臺(tái)

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更新時(shí)間:2018-05-15 16:21:46瀏覽次數(shù):9578次

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硅片顯影臺(tái)
※ 用于晶片的顯影工藝,
※ 控制模式: 手動(dòng)控制模式 自動(dòng)控制模式,
※ 清洗能力:2-8英寸晶片。
※ 需甲方提供花籃。
※ 設(shè)備形式: 室內(nèi)放

 

硅片顯影臺(tái)
 用于晶片的顯影工藝,
 控制模式: 手動(dòng)控制模式   自動(dòng)控制模式,
 清洗能力:2-8英寸晶片。
 需甲方提供花籃。
 設(shè)備形式: 室內(nèi)放置型。
※ 潔凈度:千級潔凈室 。
 工藝說明:手動(dòng)方式實(shí)現(xiàn)放片(工件),取片(工件),槽體間傳送片。
 工藝參數(shù)(溫度,時(shí)間,DI水清洗流量,時(shí)間)手動(dòng)設(shè)定。
※ 設(shè)備臺(tái)面布局按用戶要求配制。

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