半導體生產用純水設備應用范圍簡介

　　半導體生產用純水設備

　　超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業(yè)的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。

　　半導體生產用純水設備特點

　　1、設計參數準確、系統(tǒng)運行穩(wěn)定;

　　2、儀器儀表完善，在線讀取運行數據;

　　3、設備欠壓或超壓時，可及時報警停機;

　　4、自動化程度高，減少人力投入;

　　5、設備集成度高，便于運輸與安裝。

　　半導體生產用純水設備應用范圍

　　1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。

　　2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

　　3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。

　　4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

　　萊特萊德公司服務介紹：

　　售前：

　　由我們的銷售工程師為您解答相關問題，并根據您的用水需求及水源制定解決方案。

　　售中：

　　負責設備制造和配套管網建設，保證設備安裝到位，并對設備做好調適。

　　售后：

　　全國各大城市均有萊特萊德售后服務站，售后服務中心開通24小時在線服務，及時提供上門檢修服務。

　　萊特萊德公司生產超純水設備，從研發(fā)、設計、運輸、安裝、售后，全面的為客戶服務。您可提供產品設計的意見和想法，我們可按您的相應要求定制，全自動設備，您會使的安心，用的放心。