uv光氧等離子一體機去除異味凈化空氣

uv光氧等離子一體機去除異味凈化空氣：光氧等離子凈化一體機，等離子體中的離子、電子、激發(fā)太原子、分子及自由基都是極活潑的反應性物種，使通常條件下難以進行或速度很慢的反應變得快速，它們再進一步與污染物分子、離子反應，從而使污染物得到降解，尤其有利于難降解污染物的處理。

另外 ，由于活性離子和自由基氣體放電時一些高能激發(fā)粒子向下躍遷能產生紫外光線，當光子或電子的能量大于半導體禁帶寬度時，就會激發(fā)半導體內的電子，使電子從價帶躍遷至導帶，形成具有很強活性的電子空穴對，并進一步誘導一系列氧化還原反應的進行。

uv光氧等離子一體機去除異味凈化空氣：光生空穴具有很強的獲得電子能力，可與催化劑表面吸附的O2和H2O發(fā)生反應生成羥基自由基，從而進一步氧化污染物。由于等離子體放電光催化過程有大量高能電子沖擊、活性粒子、紫外線輻射等綜合因素的協(xié)同作用，因而可以更快速有效地分解空氣中有害物質和滅菌除臭。

近年來興起的半導體光催化技術由于其能耗低,氧化性能強,已有大量研究。但該技術仍存在一些缺陷,如:反應受紫外光源限制;能量產率低;較難處理高濃度、大風量的氣體等。對于這些問題的解決,研究者通過各種技術手段對光催化劑進行改性,進而提高光催化性能[2]。另一方面通過和各種外加場(超聲波、電化學、等離子體等)進行耦合聯(lián)用形成新型的高效光催化反應技術,取得了顯著效果。尤其是低溫等離子體在環(huán)境污染物處理方面的應用研究引起了人們的極大關注,被認為是環(huán)境污染物處理領域中有廣適性、有發(fā)展前途的*之一。目前,低溫等離子體技術已經成功應用于煙氣脫硫、脫氮、溫室氣體處理和VOCs的降解[6]。而低溫等離子體和光催化的結合不但解決了光催化技術的一些難點,并且還使低溫等離子體技術得到了優(yōu)化。其操作條件更加溫和,能耗進一步降低,過程中的副產物也得到了抑制。本文作者將介紹這一新技術處理污染物的基本原理,并從去除VOCs、NOx以及殺菌等方面介紹對該技術的研究進展。