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詳細(xì)介紹
兩種機(jī)型任您選擇
基于鹵素?zé)舻母咂焚|(zhì)透射和反射熒光機(jī)型
兩種機(jī)型可選，滿足您的不同需求：透射照明型 NIB900 和反射熒光照明型 NIB900-FL。透射照明型的照明采用高亮度鹵素?zé)簦蛇x配LED照明），確保整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)亮度一致。反射熒光高壓汞燈照明波長(zhǎng)寬廣，確保各個(gè)波段均能高效激發(fā)。
明場(chǎng)
模塊化設(shè)計(jì)提供了多種靈活的成像方式
| 明場(chǎng)觀察 NIS60 無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，結(jié)合半復(fù)消色差熒光物鏡有效地消去場(chǎng) 曲、色差、球差、彗差等成像問題，圖像更明亮，所有倍率都能獲得更高分辨率和平坦型。 | ||
| 相差觀察 相襯是一種光學(xué)反差技術(shù)，采用相襯物鏡和聚光環(huán)。高效率鹵素?zé)裟軌驗(yàn)橄到y(tǒng)提供明亮光源，即使在高倍率下亦能獲得清晰的圖像。 | ||
| 微分干涉（DIC） 微分干涉是一種性價(jià)比的光學(xué)技術(shù)，不需要價(jià)格高昂的光學(xué)器件。浮雕反差僅使用明視場(chǎng)物鏡和兩個(gè)相襯調(diào)節(jié)滑塊；對(duì)于較厚的樣本，例如誘導(dǎo)多能干細(xì)胞，微分干涉可提供偽三維無(wú)眩光圖像，而使用傳統(tǒng)的相襯觀察方式通常會(huì)出現(xiàn)光暈。此外，微分干涉可使用玻璃培養(yǎng)皿，是一種適用性非常強(qiáng)的觀察技術(shù)。 |
熒光
為您提供可信賴的、清晰的、高分辨率的熒光圖像
| 采用的鍍膜技術(shù) 采用高級(jí)次波紋消除鍍膜技術(shù)，使熒光的透過(guò)率更高、截止更敏銳、檢測(cè)效率更高。 | ||
| 熒光觀察更加舒適 所有熒光濾色鏡部件都采用了超高性能的濾色片。熒光照明支柱能夠安裝六個(gè)濾色鏡組，能夠同時(shí)對(duì)多種染色的標(biāo)本進(jìn)行成像。高靈敏度的熒光能夠獲得明亮而高反差的成像效果。鍍膜技術(shù)同時(shí)也減少散射光和自發(fā)熒光，確保更高的性噪比。 | ||
| 熒光激發(fā)模塊轉(zhuǎn)盤式：更輕松、更靈活 采用多功能六工位轉(zhuǎn)盤式結(jié)構(gòu)，可從主機(jī)輕松取出，方便更換各種熒光激發(fā)模塊。 | ||
| 操作簡(jiǎn)單快速，NIB900 光闌滑塊 反射視場(chǎng)光闌、孔徑光闌和濾光片插板，三種不同類型的光欄滑塊表明 NIB900 在活體細(xì)胞研究上的多功能性。配合使用孔徑光闌和熒光濾光插板時(shí)， 根據(jù)選擇的熒光模塊和物鏡，可調(diào)節(jié)到所需的熒光強(qiáng)度。 |
附件
| 載物托板 配備Terasaki托板、96孔板、 ?38mm、 ?54mm培養(yǎng)皿托板，滿足各種試驗(yàn)需求。 | ||
| 相機(jī)端口 提供 0.4X、0.5X、1X C型接口供用戶選擇，用于連接相機(jī)、攝像頭等圖像采集系統(tǒng)。 | ||
| N-iPLFN PH 平場(chǎng)半復(fù)消色差物鏡 多層鍍膜技術(shù)，半復(fù)消色差物鏡能補(bǔ)償球差和從紫外到近紅外的色差。20X 和 40X 半復(fù)消色差物鏡內(nèi)置校正環(huán)，可校正由蓋玻片厚度不標(biāo)準(zhǔn)引起的覆蓋差。 高敏感的熒光性能保證了采集圖像的銳度、清晰度和色彩還原性。 |
NOMIS Basic 顯微圖像分析 軟件
NOMIS Basic 顯微圖像分析軟件可以讓采集、處理、測(cè)量和顯微鏡之間無(wú)縫銜接。
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