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圓派科學(xué)儀器(上海)有限公司
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更新時(shí)間:2023-10-20 09:33:37瀏覽次數(shù):826次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 制藥網(wǎng)新版 EM TIC 3X 恪守我們的格言:與用戶合作,使用戶受益",以注重實(shí)用性的方式將性能和靈活性理想融合。 的 EM TIC 3X 切割速度翻倍,根據(jù)您的應(yīng)用需求提供五種不同的載物臺(tái)供您選擇,實(shí)用性得到進(jìn)一步提升。
1:SiC 研磨紙的橫切面 l 2:膠合板的橫切面 l 3:-120°C 條件下制備的同軸聚合物纖維 (溶于水) l 4:通過 Leica EM TIC 3X (配旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)) 處理展現(xiàn)的油頁巖 (納米孔),總樣品直徑為 25 mm
可復(fù)制的結(jié)果
Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面,用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。
使用 Leica EM TIX 3X,您幾乎可以在室溫或冷凍條件下,對(duì)任何材料實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的表面處理,盡可能顯示樣品近自然狀態(tài)下的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
帶來的便利!
效率
對(duì)于離子束研磨機(jī)的效率來說,真正重要的是同時(shí)具備出色的品質(zhì)結(jié)果和高產(chǎn)量。與前代版本相比,全新版本不僅切割速度提高了一倍,其*的三離子束系統(tǒng)還優(yōu)化了制備質(zhì)量,并縮短了工作時(shí)間。一次可處理樣品多達(dá) 3 個(gè), 并可在同一個(gè)載物臺(tái)上進(jìn)行橫切和拋光。
工作流程解決方案可安全、高效地將樣品傳輸至后續(xù)的制備儀器或分析系統(tǒng)。
靈活的系統(tǒng) — 隨時(shí)滿足您的需求
憑借可靈活選擇的載物臺(tái),Leica EM TIC 3X 不僅是進(jìn)行高產(chǎn)量處理的理想設(shè)備,還適用于委托檢測(cè)的實(shí)驗(yàn)室。根據(jù)您的需求,可選擇以下可互換的載物臺(tái)對(duì) Leica EM TIC 3X 進(jìn)行個(gè)性化配置:
用于制備標(biāo)準(zhǔn)樣品、高產(chǎn)量處理,以及在低溫條件下制備對(duì)高溫異常敏感的樣品,例如聚合物、橡膠或生物材料。
環(huán)境控制型工作流程解決方案
憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對(duì)接臺(tái)接口,可為易受環(huán)境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程,此類樣品包括
隨后,這些樣品會(huì)在惰性氣體/真空/冷凍條件下,被傳輸至我們的鍍膜系統(tǒng) EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統(tǒng)。
標(biāo)準(zhǔn)的工作流程解決方案 — 與 Leica EM TXP 產(chǎn)生協(xié)同效應(yīng)
在使用 Leica EM TIC 3X 之前,通常需要進(jìn)行機(jī)械準(zhǔn)備工作,以便盡可能接近感興趣區(qū)域。Leica EM TXP 是一種*的標(biāo)靶面拋光系統(tǒng),開發(fā)用于樣品的切割和拋光,為 Leica EM TIC 3X 等儀器進(jìn)行后續(xù)技術(shù)處理做好充分準(zhǔn)備
Leica EM TXP 經(jīng)專業(yè)設(shè)計(jì),利用鋸切、銑削、研磨和拋光技術(shù)對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)制。 對(duì)于需要精準(zhǔn)定位以及難以制備的挑戰(zhàn)性樣品,它能提供出色的結(jié)果,令處理變得輕松簡(jiǎn)單。
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