ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡

ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡
為對任意樣品進行高水準的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列產品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現(xiàn)亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細節(jié)信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學研究、生命科學研究、工業(yè)實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像，提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術和方案。

GeminiSEM 450 具有出色的易用性設計、更快的響應和更高的表面靈敏度，使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，充當您的得力助手

更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析

GeminiSEM 450更快的響應和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析，同時保持出色的空間分辨率，充當您的得力助手。

在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低電壓條件下工作時更為優(yōu)異；

可快速地對樣品進行大范圍及高質量成像；

經優(yōu)化的電子光學鏡筒，減少了工作過程中進行重新校準的復雜流程，節(jié)省成像時間，提高工作效率；

無論是不導電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品，無論是高真空或是可變壓力模式，均可實現(xiàn)快速和高質量的成像和分析.

ZEISS GeminiSEM 450場發(fā)射掃描電子顯微鏡
Gemini電子光學系統(tǒng)
Gemini 2類型鏡筒-出色的綜合性能，為您所欲為

• 要實現(xiàn)對任意樣品都能進行高質量的測試和表征，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優(yōu)異的性能，同時能給用戶簡單易用的操作體驗。如今，Gemini 2鏡筒可滿足您在這些方面的各種需求：

  • GeminiSEM 450 配置雙聚光鏡的Gemini 2類型電子光學鏡筒；

  • 在確保獲得出色的小電子束斑的同時，束流連續(xù)可調；

  • 可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換；

  • 調整工作參數(shù)后無需對電子束進行重新校準，為您節(jié)約時間，提高儀器效率；

  • 操作靈活易用，高電子束能量密度下的高分辨率成像，低束流分析，高束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定；

  • 物鏡無漏磁設計，在大視野范圍成像和EBSD分析中不會引起畸變，確保獲得樣品高質量的圖像；

  • 出色、穩(wěn)定的電子光學鏡筒，對各種類型的樣品都能簡單快速的進行高分辨率成像，即使在使用中樣品需要傾斜，甚至是對磁性樣品進行成像；

  • P搭載局部電荷中和器或NanoVP可變壓力模式，有效地消除樣品的表面荷電，讓您在出色參數(shù)下對樣品進行成像和分析.

技術參數(shù)：