EVO 18 分析型掃描電鏡 電子顯微鏡

EVO 18 分析型掃描電鏡

標(biāo)配能譜儀和波譜儀(EDS & WDC)接口，另有用于高級形貌與化學(xué)分析的全集成式顆粒分析和識別解決方案可供選擇。通過升級LaB6高亮度光源將與X射線分析相關(guān)的探針電流性能提升至一個全新的水準(zhǔn)。

EVO 18 掃描電鏡的五象限背散射電子探測器(BSE)有助于增強低電壓性能及提供更豐富的形態(tài)信息。對于非導(dǎo)電樣品，電子束襯管技術(shù)可有效提高分辨率。

EVO 18 Research 是學(xué)術(shù)和研究機構(gòu)使用的一款分析型掃描電子顯微鏡。EVO 18 Research 為您提供的成像品質(zhì)，具有處理多種材料的能力。結(jié)合SmartSEM 軟件的易用性，使其成為多種研究應(yīng)用的合適之選，范圍涵蓋半導(dǎo)體和電子技術(shù)、地質(zhì)科學(xué)及材料研究。
掃描電鏡

【品牌故事】

世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)，積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗。

CARL ZEISS以其前瞻性**的設(shè)計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標(biāo)準(zhǔn)的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。

EVO 18 分析型掃描電鏡【總體描述】

EVO18是一臺高性能、功能強大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。系統(tǒng)采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計，提供高真空成像功能，可對各種材料表面作分析。并且具有業(yè)界的X射線分析條件，樣品臺為五軸全自動控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵滿足快速的樣品更換和無污染成像分析。

  【技術(shù)參數(shù)】

分辨率：3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)

4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD )

加速電壓：0.2-30KV

放大倍數(shù)：5-1000000 x

探針電流：0.5PA-5μA

X-射線分析工作距離：8.5mm 35度接收角

低真空壓力范圍：10-400Pa(選配10-750Pa、LS10:環(huán)掃模式10-3000pa)

工作室：365mm (Φ) x 275 mm (h)

5軸優(yōu)中心自動樣品臺：X=125mm Y=125mm Z=50mm

T= -10°- 90° R=360°(l連續(xù))

較大試樣高度：145mm 大試樣直徑：250mm

系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM 操作系統(tǒng)

存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

  【產(chǎn)品應(yīng)用】

掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。