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霍爾離子源 eH 200 伯東代理

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更新時(shí)間：2021-12-28 15:21:00瀏覽次數(shù)：466次

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伯東企業(yè)（上海）有限公司

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所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：葉南晶（銷售助理）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地	進(jìn)口	產(chǎn)品新舊	全新

上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產(chǎn)工具.

詳細(xì)介紹

KRI 霍爾離子源 eH 200
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產(chǎn)工具.

KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	eH 200
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300V VDC
- 離子源直徑	~ 2 cm
- 陽極結(jié)構(gòu)	模塊化
電源控制	eHx-3005A
配置	-
- 陰極中和器	Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
- 水冷	無
- 底座	移動(dòng)或快接法蘭
- 高度	2.0'
- 直徑	2.5'
-加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
-工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	6-24"
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體