預處理系統(tǒng)

                                                  預處理系統(tǒng)                                                     PLC控制盤

 （1）預處理系統(tǒng)設計與選用的主要依據(jù)

l         采用分析儀的設備或流程系統(tǒng)的工藝過程及其特點，分析儀在該工藝流程中的作用

l         取樣點的位置、環(huán)境狀況以及取樣點周圍樣品的分布狀態(tài)及物理化學參數(shù)

l         被測組分的平均含量，以及可能出現(xiàn)的與含量，工藝過程中的變化頻率

l         非測量組分的平均含量及其在工藝過程中的變化范圍，考慮消除措施及抗干擾措施

l         樣品中的水含量，對大多數(shù)氣體分析儀具有干擾作用，應采取相應措施加以限制或消除

l         樣品壓力或壓差及其波動范圍，多數(shù)分析儀對樣品壓力及流量比較敏感，需要一定的穩(wěn)壓穩(wěn)流措施

l         樣品溫度變化范圍及其平均值，以便選擇合理的取樣探頭結(jié)構(gòu)及核算其使用壽命，同時，考慮分析儀是否采用溫度補償措施

l         樣品中機械雜質(zhì)及其含量；灰塵含量是設計取樣探頭及過濾器的重要依據(jù)，根據(jù)灰塵平均含量，核算過濾器更換或維護的周期；灰塵顆粒尺寸變化較大時，采用不同的多種過濾方式

l         樣品中腐蝕性物質(zhì)的平均含量及可能的含量，與選擇取樣系統(tǒng)的材料、分析儀類型、過濾方式等有關

l         取樣點樣品含量發(fā)生變化到分析儀穩(wěn)定所允許的時間（響應時間），需要考慮響應時間是否能滿足工藝生產(chǎn)的要求，否則，要從儀器選型、取樣點、分析儀安裝位置考慮盡量使距離縮短

l         分析儀及取樣系統(tǒng)安裝地點的安全防爆等級，以及是否需要PLC全自動控制采樣，也是取樣系統(tǒng)選型的重要依據(jù)；

（2）預處理系統(tǒng)對樣品進行處理后的要求

目的在于改善樣品的物理、化學特性，適應分析儀的正常工作，要求如下：

l         樣品中灰塵和機械雜質(zhì)一般不超過0.01g/m³

l         樣品中水蒸汽必須排除，一般含水量不超過0.5g/m³

l         樣品中腐蝕性雜質(zhì)，如硫化氫、氨等，一般不超過0.01g/m³

l         樣品溫度一般不超過40℃，是室溫

l         進入分析儀的壓力盡量接近大氣壓，以簡化分析儀的設計要求

l         控制樣品流量，大多數(shù)分析儀所需流量為0.2～1L/min，且要求流量保持穩(wěn)定

l         消除或減少樣品中對分析儀有干擾作用的組分，但應避免改變待測組分的含量