「高純水設(shè)備」高純水設(shè)備的適用范圍和工藝過程，目前半導(dǎo)體，電子行業(yè)是世界上對超純水的要求用戶。超大型水力制造技術(shù)的發(fā)展大大推動了半導(dǎo)體和電子工業(yè)的技術(shù)進步。與此同時，半導(dǎo)體和電子行業(yè)的快速發(fā)展，推動了超純水生產(chǎn)技術(shù)的進步,反滲透(RO)+(EDI)電去離子工藝，生產(chǎn)用水符合電子工業(yè)用水(水質(zhì)符合美國ASTM標準，電子部超純水的水質(zhì)標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,12MΩ*cm,0.5MΩ*cm)。超純水電子設(shè)備的適用范圍，半導(dǎo)體，集成電路芯片和封裝，液晶顯示，高精度線路板，光電器件，各種電子器件，微電子工業(yè)，大型，超大型集成電路需要大量的純水，高純水，超純水來清洗半成品，成品。芯片集成度越高，線寬越窄，水質(zhì)要求越高。現(xiàn)將電子級水質(zhì)檢測技術(shù)劃分為工業(yè)級18MΩ.cm,15MΩ.cm,10MΩ.cm,2MΩ.cm,0.5MΩ.cm等5個工業(yè)級，以區(qū)別不同水質(zhì)。
「高純水設(shè)備」高純水設(shè)備的適用范圍和工藝過程，電子業(yè)制備超純水的過程大致可分為三個階段：
采用反滲透水處理設(shè)備和離子交換設(shè)備相結(jié)合的方法制備電子工業(yè)用超純水，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水水箱→超純泵→后防腐過濾器→用水點。
利用反滲透設(shè)備和電除子(EDI)設(shè)備相結(jié)合的方法制備電子工業(yè)中的超純水，這是一種的超純水生產(chǎn)技術(shù)，同時也是一種環(huán)保、經(jīng)濟、發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯a(chǎn)技術(shù)，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電除子(EDI)→超純水泵→超純水泵→超純水過濾器→后置安全過濾器→用水點。
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