FHC-00高頻感應熔樣機

FHC-00型高頻熔樣機是瑞紳葆分析技術（上海）有限公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設備，還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測試用玻璃熔片是這樣過程：試樣在助熔劑（如硼酸鋰鹽）的協(xié)助下，用鉑黃坩堝（一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5）做導熱容器，通過高溫加熱熔融（熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間），后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。......

FHC-00型高頻熔樣機是瑞紳葆分析技術（上海）有限公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設備，還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析。玻璃熔融法制備XRF的測試用玻璃熔片是這樣過程：試樣在助熔劑（如硼酸鋰鹽）的協(xié)助下，用鉑黃坩堝（一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5）做導熱容器，通過高溫加熱熔融（熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間），后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。玻璃熔片法作為XRF測試的制備樣品重要方法之一，有效減少甚至消除了樣品在XRF分析時的顆粒效應、基體效應、礦物效應等不良因素，提高了XRF的精確度，在鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥等行業(yè)有廣泛應用。本自動高頻熔樣機是為快速高效制備XRF分析用玻璃熔片而設計，整機結(jié)構合理，采用高頻感應加熱技術，有*的加熱速度，同時配備有高精度紅外測溫系統(tǒng)實時測溫并結(jié)合PID控溫技術確保熔樣過程的溫度準確性和重現(xiàn)性，*的保障玻璃熔片的質(zhì)量，采用直觀全觸摸屏設計，人機界面友好，操作簡單，PLC智能控制組成整機控制中樞，使得熔樣機具有*的自動化程度，穩(wěn)定和靈活操作特性。高頻快速加熱結(jié)合完整的溫度控制、運動搖勻、安全機制等設計使得本設備在玻璃熔片制樣上表現(xiàn)出高效穩(wěn)定特性，各項指標性能表現(xiàn)*，擁有很高的性價比，適用性強，可以滿足不同客戶對不同樣品的快速玻璃熔片制樣需求。

優(yōu)點

? 靈活，多功能性：XRF分析用玻璃熔片，AAS和ICP分析用溶液。

? 采用高頻感應加熱系統(tǒng)，快速升溫，過程可靠穩(wěn)定高效。

? 有單堝單模，雙堝雙模，四堝四模等三種可選，制樣速度為：5-10min/批。

? 采用集操作和顯示于一體的觸摸屏人機界面，操作簡單、安全可靠。

? 采用高精度紅外測溫系統(tǒng)，結(jié)合PID智能溫度控制，保證熔樣過程的控溫制樣準確性。

? PLC智能控制系統(tǒng)，可預存儲5套常用制樣程序。

? 具熔融過程自動擺動功能，保障熔樣均勻性。

? 自動完成整個熔化和澆鑄成型。用戶只需按自己要求上樣，按預氧化→加熱熔化→擺動搖勻→澆鑄成型→冷卻，設定好熔樣程序，一鍵啟動，即可自動執(zhí)行完成快速高質(zhì)量制樣。

? 對鉑金坩堝和成型模具設計有耐熱陶瓷保護架，保障其正常使用壽命。

? 熔化室內(nèi)設計有專門抽風系統(tǒng)，可及時排走熔化過程中產(chǎn)生的有害氣體，保障用戶健康使用。

? 有過壓、過流、過熱、缺水、超溫等多重安全防護，保障安全穩(wěn)定使用。

? 對不同樣品有廣泛適用性，制得的熔片均勻可靠，性價比高，可*滿足用戶XRF分析時對玻璃熔片的高要求。

技術參數(shù)

 

型號	FHC-00
溫度范圍	室溫-1300℃
加熱方式	高頻感應加熱
控溫方式	紅外非接觸實時測溫，PID反控高頻加熱
額定功率	單堝：8kw， 空開要求：32A 雙堝：16kw,  空開要求：60A 四堝：32kw,  空開要求：125A
電源	單相AC220V±10%、50/60Hz，保護接地
振蕩頻率	50-100kHz
坩堝架搖擺角度	大±45°
坩堝架搖擺頻率	30-99次/分鐘(用戶可調(diào)）
倒樣角度	60-122°（用戶可調(diào)）
成型方式	自動倒模澆鑄成型
控制系統(tǒng)	集操作顯示控制一體彩色液晶觸摸屏、PLC控制
預存儲程序數(shù)	5條（用戶可設置常用熔樣程序）
熔樣曲線工作模式及各階段時間	預熱-氧化-熔融-搖擺-自動澆鑄成型-冷卻，各階段時間可調(diào)
感應圈水溫	≤60℃
冷卻系統(tǒng)	加熱線圈需水冷卻（外置冷水機），供水要求大于3L/min, 水壓≤0.2MPa；熔片冷卻采用風扇強制風冷
熔樣工作方式	預氧化→熔融+擺動→自動澆鑄成型→冷卻
熔樣位	雙堝雙模（用戶可選單堝單模，或四堝四模）
熔樣速度	5-10min/批（根據(jù)樣品的復雜程度而定）
設備安全保護	過壓、過流、過熱、缺水、超溫
坩堝要求	鉑黃坩堝（Pt/Au: 95/5）
儀器重量	50kg（雙鍋雙模）/25kg（單堝單模）/100kg（四堝四模）
主機尺寸（L×W×H mm）	雙堝雙模型主機：580×828×425（不包括外置水冷機） 單堝單模型主機：580×414×425（不包括外置水冷機） 四堝四模型主機：580×1656×425（不包括外置水冷機）

應用領域

鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥、陶瓷耐火材料等行業(yè)，用于礦石、巖石、土壤、耐火材料、冶金原料等樣品的XRF分析——玻璃熔片制樣。

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