加熱型勻膠機(jī)

一、產(chǎn)品簡介：

本產(chǎn)品主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

二、主要技術(shù)特點(diǎn)：

1、可對(duì)涂層表面進(jìn)行恒溫加熱，加熱范圍：室溫～200℃，控溫精度0.1℃。

2、可以用于勻膠涂覆有機(jī)物，進(jìn)行薄膜制備。

3、可以行勻膠，然后進(jìn)行烤膠。

4、可存儲(chǔ)多種不同基片的旋轉(zhuǎn)涂敷工藝參數(shù)。每個(gè)涂敷工藝流程可以設(shè)置多步不同的旋轉(zhuǎn)速度

5、勻膠機(jī)內(nèi)安裝有真空數(shù)字傳感器，涂敷過程中可實(shí)時(shí)檢測(cè)系統(tǒng)真空度，控制器必須在合適的真空度下電機(jī)才可以正常啟動(dòng)和運(yùn)行。這樣可以有效保障：可靠吸片并杜絕飛片事故的發(fā)生。

6、操作系統(tǒng)有中、英文相互切換供您選擇。

7、工作腔體為 聚四氟（塑料王）材質(zhì)，它是由四氟乙烯經(jīng)聚合而成的高分子化合物，具有優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性和*的耐腐蝕性，已廣泛應(yīng)用于各種需要抗酸堿和有機(jī)溶劑的場(chǎng)合。

 三、主要技術(shù)參數(shù)：

單相交流電源：220V.50Hz

電機(jī)功率：150W

基片尺寸：8英寸

可選擇配置： 基片直徑10—200mm可接受訂貨。

主機(jī)轉(zhuǎn)數(shù)：0～10000 轉(zhuǎn)/分。（空轉(zhuǎn)）

設(shè)定時(shí)間：1---9999秒。

加熱溫度：室溫～200℃

結(jié)構(gòu)尺寸： 300mm寬 x 300mm深 x 200 mm高 ,

可選配件

1、CY-2Z真空泵
2、真空吸盤尺寸：直徑10，20，25，50，75mm聚四氟乙烯吸盤。

四、免責(zé)聲明