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詳細(xì)介紹
詳情介紹：
CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實(shí)驗(yàn)室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。
設(shè)備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺(tái)，真空泵機(jī)組、真空測(cè)量規(guī)管，進(jìn)氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
設(shè)計(jì)特色
1. 設(shè)備主機(jī)采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測(cè)。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺(tái)。
2. 真空室采用下置靶設(shè)計(jì)，樣品臺(tái)具有加熱和旋轉(zhuǎn)但是功能，可以使鍍膜效果更加均勻。
3. 設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用兩級(jí)真空泵組，前級(jí)泵為大抽速機(jī)械泵，有效縮從常壓至低真空的時(shí)間，主泵為渦輪分子泵，抽速高，真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。
4. 真空腔體采用304不銹鋼制成，配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細(xì)，真空性能優(yōu)異。
5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效保證鍍膜質(zhì)量。
技術(shù)參數(shù)
| 磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸 x2 | 冷卻方式 | 水冷 |
| 蒸發(fā)系統(tǒng) | 蒸發(fā)源 | 鎢絲籃 | *高溫度 | 1500℃ |
| 熱電偶 | S型熱電偶 |
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| 真空腔體 | 腔體尺寸 | φ300mm X 300mm | 觀察窗口 | φ100mm |
| 腔體材料 | 304不銹鋼 | 開啟方式 | 前開門式 | |
| 真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | 旋片泵 | 抽氣接口 | KF16 |
| 抽氣速率 | 1.1L/s |
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| 分子泵 | 渦輪分子泵 | 抽氣接口 | CF150 | |
| 抽氣速率 | 600L/s | 排氣接口 | KF40 | |
| 真空測(cè)量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) |
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| 極限真空 | 1.3x10-4Pa | 供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
| 電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺(tái) | 輸出功率 | ≤1000W |
| 輸出電壓 | ≤600W | 響應(yīng)時(shí)間 | ＜5ms | |
| 射頻電源數(shù)量 | 1臺(tái) | 輸出功率 | ≤1000W | |
| 功率穩(wěn)定度 | ≤5W |
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| 射頻功率 | 13.56MHz | 射頻穩(wěn)定度 | ±0.005% | |
| 膜厚監(jiān)控系統(tǒng) | 膜厚儀測(cè)量分辨率 | ±0.03Hz | 測(cè)量精度 | ±0.5% |
| 測(cè)量上限 | 50000 | 測(cè)量速度 | 100~1000ms | |
| 水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L | 流量 | 10L/min |
| 供氣系統(tǒng) | 流量計(jì)類型 | 質(zhì)量流量計(jì) | 量程 | 200sccm |
| 氣體類型 | Ar氣 |
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其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)尺寸 | 1400x750x1300mm |
| 整機(jī)功率 | 4kw（主機(jī)+真空泵） | 整機(jī)重量 | 295kg |
樣品臺(tái)
樣式一：尺寸150mm，加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃， 旋轉(zhuǎn)速度1-20r/min
樣式二：尺寸φ150mm，高度 上下70mm精準(zhǔn)可調(diào)，旋轉(zhuǎn)速度1~20rpm，加熱溫度 0~500℃
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