PECVD沉積系統(tǒng)

PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等離子體增強化學(xué)的氣相沉積PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促使反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD).

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等離子體增強化學(xué)的氣相沉積

PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促使反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD).