OTL-PECVD-1200 PECVD系統(tǒng)

OTL-PECVD-1200PECVD系統(tǒng)，由OTL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)組成。

主要特點：

1、通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。

2、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。

3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。

4、PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。

5、廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。

OTL-PECVD-1200 PECVD系統(tǒng)以瑞典Kanthal電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，抽真空時真空度能夠達到10-3 Pa，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能、*等優(yōu)點。

(3)、電阻均衡、溫場均衡性好

(4)、加熱元件：瑞典Kanthal  A1 進口電阻絲 （電阻絲可承諾保修2年）

當電路過流或漏電時，空開會自動斷開

該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù)，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升  溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來，隨時可以調(diào)出真空度。

（2）、采用*成型。

（3）、爐膛里電阻絲的間距和節(jié)距全部按日本的熱工技術布置、經(jīng)過熱工軟件模擬溫場

（4）、采用4周加熱，溫場更加均衡

（全部通過UL認證的進口電器）