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奧林巴斯倒置金相顯微鏡

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更新時間:2021-05-22 08:42:02瀏覽次數(shù):561

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產(chǎn)品簡介

奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53可快速分析厚、大樣本材料。

詳細(xì)介紹

奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53設(shè)計用于鋼,汽車,電子和其他制造業(yè),GX53顯微鏡提供清晰的圖像,可以很難捕捉到使用傳統(tǒng)的顯微鏡觀察方法。當(dāng)與奧林巴斯流圖像分析軟件相結(jié)合時,顯微鏡簡化了從觀察到圖像分析和報告的檢查過程。

快速檢查,*功能

快速觀察、測量和分析冶金結(jié)構(gòu)。

分析工具

1組合觀測方法產(chǎn)生異常圖像

2輕松創(chuàng)建全景圖像

3創(chuàng)建所有焦點圖像

4捕捉光明和黑暗的區(qū)域

材料科學(xué)優(yōu)化

1。材料科學(xué)軟件設(shè)計

2。符合工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的冶金分析

操作簡單

甚至新手操作員也可以輕松地進行觀察、分析結(jié)果和創(chuàng)建報告。

1輕松恢復(fù)顯微鏡設(shè)置

2用戶指導(dǎo)有助于簡化分析

3報表生成
*成像技術(shù)

我們已證明的光學(xué)和成像技術(shù)提供清晰的圖像和可靠的結(jié)果。

1可靠的光學(xué)性能:波前像差控制

2清晰圖像:圖像陰影校正

3一致的色溫:高強度白光LED照明

4準(zhǔn)確測量:自動校準(zhǔn)


模塊化

選擇應(yīng)用程序所需的組件。

1。建立你的系統(tǒng)你的方式:*可定制的系統(tǒng)與各種可選組件

分析工具

GX53顯微鏡的各種觀察能力提供清晰、清晰的圖像,因此您可以可靠地檢測樣品中的缺陷。奧林巴斯流圖像分析軟件的新的照明技術(shù)和圖像采集選項給你更多的選擇來評估你的樣品和記錄你的發(fā)現(xiàn)。


無形變得可見:混合技術(shù)

混合技術(shù)將暗視場與另一種觀測方法,如亮度場或偏振相結(jié)合,使你能夠用傳統(tǒng)的顯微鏡觀察難以看到的樣品。圓形LED照明器具有方向暗場函數(shù),其中在給定時間照射一個或多個象限,減少樣品的光暈以更好地顯示表面紋理。

印刷電路板的橫截面


明場                                    暗場                                         混合:光明場+暗場

襯底層和通孔是看不見的                     痕跡是看不見的。                    所有的組件都清楚地表示出來。


不繡鋼


明場                                       暗場                                混合:明場+暗場

紋理是不可見的                           消除了顏色信息                    材料顏色和紋理都是可見的

輕松創(chuàng)建全景圖像:即時MIa

通過多個圖像對齊(MIA),您可以簡單地通過在手動檔上移動XY旋鈕來拼接圖像。電動級是可選的。奧林巴斯流軟件使用模式識別來生成全景圖像,使其成為檢測滲碳和金屬流動條件的理想工具。

螺栓的金屬流動

使用XY旋鈕調(diào)整工作平臺位置。                                             金屬全部形貌都可以看到。


創(chuàng)建所有焦點圖像:EFI

奧林巴斯Software軟件的擴展聚焦成像(EFI)功能捕獲樣本的圖像,其圖像的高度超出焦點深度。EFI將這些圖像疊加在一起,以創(chuàng)建樣本的全聚焦圖像。即使在分析具有不平坦表面的橫截面樣品時,EFI也產(chǎn)生*聚焦的圖像。

EFI與手動或電動Z軸一起工作,并創(chuàng)建高度圖來可視化結(jié)構(gòu)。

樹脂零件


用調(diào)焦手柄調(diào)整物鏡的高度。        EFI自動捕獲并堆疊多個圖像以創(chuàng)         *聚焦的圖像被創(chuàng)建。

建樣本的單焦點圖像。

用HDR捕獲亮區(qū)和暗區(qū)

使用*的圖像處理,高動態(tài)范圍(HDR)調(diào)節(jié)圖像中亮度的差異以減少眩光。它也有助于提高低對比度圖像的對比度。HDR可用于觀察電子器件中的微小結(jié)構(gòu)并識別金屬晶粒邊界。

鍍金板

有些地區(qū)有眩光。                                            暗區(qū)和亮區(qū)都用HDR清楚地暴露出來。


鉻擴散涂層

對比度低 不清楚。                                                     HDR 增強對比度。

奧林巴斯流軟件-優(yōu)化材料科學(xué)

GX53顯微鏡和奧林巴斯流軟件共同支持符合不同工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的冶金分析方法。通過逐步的操作員指導(dǎo),用戶可以快速而容易地分析他們的樣本。

粒子分析計數(shù)與測量解決方案

計數(shù)和測量解決方案使用*的閾值方法,以可靠地分離物體,如顆粒和劃痕,從背景。超過50種不同的對象測量和分類參數(shù)是可用的,包括形狀、大小、位置和像素屬性。

常規(guī)軟件                                  腐蝕鋼顯微組織                                     奧林巴斯

晶界不清                              (原始圖像)                                    清楚地檢測到晶界。


分類結(jié)果

顯微組織中的晶粒尺寸

測量了鋁、鋼晶體結(jié)構(gòu),如鐵素體和奧氏體等金屬的晶粒尺寸和顯微組織。

支持標(biāo)準(zhǔn):ISO、GOST、ASTM、DIN、JIS、GB/T

鐵素體晶粒的顯微組織

粒徑截距解                                           二次相粒度測定


石墨球度評價

評價鑄鐵試樣(結(jié)節(jié)和蠕蟲狀)中的石墨球化度和含量。對石墨節(jié)點的形狀、分布和尺寸進行分類。

支持標(biāo)準(zhǔn):ISO、NF、ASTM、KS、JIS、GB/T

球墨鑄鐵球墨鑄鐵

鑄鐵溶液

高純鋼中非金屬夾雜物含量的評定

使用在樣品中手工發(fā)現(xiàn)的壞的或差的夾雜物的圖像對非金屬夾雜物進行分類。

支持標(biāo)準(zhǔn):ISO、EN、ASTM、DIN、JIS、GB/T、UNI

非金屬夾雜物鋼

比較樣品和參考圖像的圖像

輕松地比較活的或靜止的圖像與自動縮放參考圖像。該解決方案包括根據(jù)各種標(biāo)準(zhǔn)(附加的參考圖像可以單獨購買)的參考圖像。支持多種模式,包括實時覆蓋顯示和并排比較。

支持標(biāo)準(zhǔn):ISO、EN、ASTM、DIN、SEP

非金屬夾雜物鋼                                 鐵素體晶粒組織

簡單有效的檢查

使用GX53顯微鏡和奧林巴斯流軟件采集不同樣品的圖像,進行各種分析,并生成專業(yè)報告。

輕松恢復(fù)顯微鏡設(shè)置:編碼硬件

編碼功能將顯微鏡的硬件設(shè)置與奧林巴斯流圖像分析軟件集成在一起。觀察方法、照明強度和放大率可以被記錄并存儲在相關(guān)圖像中。這些設(shè)置很容易再現(xiàn),使得不同的操作員可以進行有限的培訓(xùn),同樣的質(zhì)量檢查。

不同的操作員使用不同的設(shè)置。使用流軟件檢索設(shè)備設(shè)置。 所有的操作員都可以使用相同的設(shè)置。

用戶指導(dǎo)有助于簡化分析

該軟件逐步引導(dǎo)用戶通過符合所選擇的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的檢查過程。操作人員可以簡單地通過屏幕上的引導(dǎo)進行分析。

報表生成

創(chuàng)建報告通常要比捕獲圖像和測量花費更長的時間。奧林巴斯流軟件提供了直觀的報告創(chuàng)建,以根據(jù)預(yù)先定義的模板重復(fù)生成復(fù)雜的報表。

奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53配置參數(shù) 

光學(xué)系統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng) 

UIS2光學(xué)系統(tǒng)(無限校正) 

顯微鏡架 

反射光照明 

鏡像單元的手動亮場/暗場選擇 
       定心手動停止/孔徑停止開關(guān) 
       光源:White LED(光強管理器)/ 12伏,100瓦鹵素?zé)? 100 W汞燈/光導(dǎo)光源 
       觀測模式:亮場、暗場、差分界面對比度(DIC)* 1、簡單偏振* 1、混合觀測(4方向暗場)* 2
       *    1滑塊使用此觀察是需要的。* 2混合觀測配置是需要的。 

透射光照明 
       (可選) 

要求透射光(IX2-IL100:具有場停止) 
       PMG3-LWCD:具有孔徑光闌的Condenser(NA 0.6,WD    12 mm) 
       光源:White LED(帶光強管理器)12伏,100瓦鹵素?zé)?nbsp;
       觀測模式:亮場,簡單極化 

目鏡刻度尺 

所有端口從目鏡看到的觀察位置顛倒位置(向上/向下)。 

輸出前端端口(可選) 

攝像機和DP系統(tǒng)(反向圖像,GX專用攝像機適配器) 

輸出側(cè)端口(可選) 

攝像機、DP系統(tǒng)(直立圖像) 

電氣系統(tǒng) 

反射光照明 
       用于反射光照明的內(nèi)置LED電源 
       連續(xù)可變光強刻度盤 
       輸入額定值5伏直流,2.5 A(交流適配器100    - 240伏,交流0.4 A,50赫茲/ 60赫茲) 
       透射光照明(需要可選的BX3M PSLED電源) 
       連續(xù)可變光強分接電壓 
       輸入額定值5伏直流,2.5 A(交流適配器100    - 240伏,交流0.4 A,50赫茲/ 60赫茲) 
       外部接口(需要可選的BX3M CBFM控制盒) 
       編碼管接頭連接器×1
       混合滑塊(U-MIX)連接器×1
       手機(BX3M HS)連接器×1
       手機(U-HEXIP)連接器×1
       RS-232C連接器×1,USB 2連接器×1

調(diào)焦機構(gòu) 

帶滾輪導(dǎo)軌的齒輪齒條 
       手動、粗、細(xì)同軸手柄;聚焦行程9毫米(2毫米以上,舞臺表面以下7毫米) 
       每轉(zhuǎn)精細(xì)手柄行程:100μm(分鐘尺度:1μm) 
       粗手柄每轉(zhuǎn)行程:7毫米 
       具有扭矩調(diào)節(jié)環(huán)的粗聚焦 
       用于粗聚焦的上限止動器 

觀察頭 

Widefield (FN 22) 

倒置:雙目(U-Bi90,U-Bi90CT),三目(U-Tr30H-2),傾斜雙目(U-TBI90) 

鼻甲 

明場孔:4至7個PCS,類型:手動/編碼,定心:啟用/禁用 
       亮場/暗場孔:5到6個PCS,類型:手動/編碼,定心:啟用/禁用 

平臺 

GX(X/Y行程:50×50毫米,超大負(fù)荷5千克)右手柄級 
       靈活的右手柄級,左短手柄級(每X/Y行程:50×50 mm,超大載荷1千克) 
       滑動階段(超大負(fù)荷1公斤) 
       一組淚滴和長孔類型 

重量 

約25公斤(顯微鏡架20公斤) 

環(huán)境 

室內(nèi)使用 
       環(huán)境溫度:5~40°C(45~100°F) 
       較大相對濕度:80%℃至31℃(88°F)(不冷凝) 
       在超過31°C(88°F)的情況下,相對濕度在34°C(93°F)、70%°C和37°C時線性減小到了70%。 
       (99°F),在40°C(104°F)為50%。 
       污染程度:2(符合IEC60664—1) 
       ?安裝/過電壓類別:II(符合IEC60664—1) 
       電源電壓波動±10%

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