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更新時(shí)間：2021-06-04 15:07:56瀏覽次數(shù)：405次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 制藥網(wǎng)化妝品制水設(shè)備
去離子水設(shè)備是指利用反滲透設(shè)備、離子樹脂混床設(shè)備、EDI高純水設(shè)備等來制備去離子水的工藝水處理設(shè)備。
化妝品制水設(shè)備
化妝品行業(yè)去離子水水質(zhì)要求：①去離子水中衛(wèi)生物指標(biāo)：微生物指標(biāo)直接關(guān)乎到產(chǎn)品的衛(wèi)生安全，水是作為化妝品配料的載體，更需嚴(yán)格控制水體中的微生物指標(biāo)，一般細(xì)菌、霉菌、酵母菌總數(shù)控制在100個(gè)/ml內(nèi)，一般采用膜處理隔離、UV紫外線滅菌、臭氧殺菌等方法來處理控制。②水中離子的含量：控制離子含量目的用于增加水分子的溶解性以及減少離子對產(chǎn)品其他原料的副作用。一般要求水質(zhì)離子含量控制在0.2mg/L（電導(dǎo)率在0.5μs/cm）內(nèi)，可以采用RO反滲透、EDI、離子交換等工藝處理。③水中不溶顆粒物指標(biāo)：一般在去離子水設(shè)備供水末端采用微孔過濾器或超濾膜來控制。
去離子水設(shè)備是指利用反滲透設(shè)備、離子樹脂混床設(shè)備、EDI高純水設(shè)備等來制備去離子水的工藝水處理設(shè)備。去離子水設(shè)備出水電導(dǎo)率一般有10us/cm、5us/cm或者1us/cm以內(nèi)或者電阻率達(dá)到18 MΩ.CM，根據(jù)不同的水質(zhì)及使用要求，出水電阻率可控制在1~18MΩ.cm之間。去離子水設(shè)備廣泛應(yīng)用在電子、電力超純水，化工，電鍍超純水，鍋爐補(bǔ)給水及醫(yī)藥用超純水等工業(yè)超純水，高純水的制備上。
化妝品制水設(shè)備去離子水設(shè)備的制造工藝：
1、原水-原水泵-機(jī)械過濾-活性炭過濾-軟化-微濾-一級(jí)RO裝置-二級(jí)RO裝置-EDI裝置；產(chǎn)水電阻率在5~18MΩ.cm.CM
2、原水-原水泵-機(jī)械過濾-活性炭過濾-軟化-微濾-RO裝置-樹脂混床，產(chǎn)水電阻率1MΩ.CM以上；
3、原水-原水泵-機(jī)械過濾-活性炭過濾-軟化-微濾-RO裝置，產(chǎn)水電導(dǎo)率10uS/cm以下
① 源水箱：貯存系統(tǒng)原水，對進(jìn)水起調(diào)節(jié)作用，也對進(jìn)水中的雜質(zhì)起一定的沉淀作用。 設(shè)置高、低水位電磁感應(yīng)液位計(jì)，動(dòng)態(tài)檢測水箱液位。材料多采用非金屬，如聚乙烯（PE）
② 原水泵：作為預(yù)處理過濾器的動(dòng)力源，應(yīng)配置高、低壓保護(hù)、過熱保護(hù)，以防止泵的損壞。
③ 藥箱、計(jì)量泵：假如源水水質(zhì)濁度較高，通常運(yùn)用精密泵進(jìn)行自動(dòng)加藥（量由調(diào)試時(shí)確定），同時(shí)可根據(jù)城市管網(wǎng)供水的特點(diǎn)及源水水質(zhì)報(bào)告，加入適量的絮凝劑，使源水中的藻類、膠體、顆粒及部分有機(jī)物等凝聚為較大的顆粒，以便經(jīng)后面的砂濾去除。加藥箱的材質(zhì)亦多為非金屬材料（如PE），計(jì)量泵的定量加藥應(yīng)與源水泵動(dòng)轉(zhuǎn)同步進(jìn)行。
④ 砂濾器：初步去除水中泥沙、雜質(zhì)、懸浮物以及其它微粒等降低水的濁度。由于源水中氯離子對金屬的氧化性，以及時(shí)間久了會(huì)使金屬的表面發(fā)生晶間腐蝕。因此機(jī)械過濾器罐體可采用玻璃內(nèi)襯PE膽的非金屬罐體，或不銹鋼襯橡膠罐體。
⑤ 活性炭過濾器：利用碳的吸附原理吸附水中異色、異味、余氯等，活性炭過濾器的罐體可采用玻璃內(nèi)襯PE膽的非金屬罐體，或不銹鋼襯橡膠罐體。
⑥ 軟化過濾器：主要是功能、軟化水質(zhì)，防止RO膜結(jié)垢，由于再生液中CL-能使金屬腐蝕，因此軟化過濾器的罐體宜采用非金屬的材料制造，例如,可采用玻璃內(nèi)襯PE膽的非金屬罐體，或不銹鋼襯橡膠罐體。
⑦ 保安過濾器：是源水進(jìn)入反滲透膜前zui后一道處理工藝。其作用是防止上一道過濾可能存在的泄漏。否則，部分固微粒會(huì)滲入反滲膜中，使反滲透膜阻塞。
⑧ 高壓泵：作為反滲透系統(tǒng)動(dòng)力源的高壓泵，應(yīng)配置高、低壓保護(hù)、過熱保護(hù)，以防止泵的損壞。
反滲透裝置：反滲透裝置主要安裝進(jìn)口反滲透膜，控制系統(tǒng)用微電腦PLC來實(shí)現(xiàn)反滲膜組件的沖洗、制水、水箱滿、藥洗、高壓泵的高低壓保護(hù)、過熱保護(hù)等工藝過程的全自動(dòng)控制，并應(yīng)帶有電導(dǎo)率的隨機(jī)顯示。
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