P140/S140 3D打印機(jī)

nanoArch 3D打印機(jī)P140/S140

nanoArch P140是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹(shù)脂槽液面，在液面固化樹(shù)脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)

nanoArch P140是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch P140/S140系統(tǒng)性能：（注：樣品高度典型2mm,10mm）

nano Arch P140產(chǎn)品規(guī)格：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏樹(shù)脂

光學(xué)精度：10μm

XY打印精度：10-40μm

打印層厚；10-40μm

打印樣品尺寸：19.2mm(L)x10.8mm(W)x45mm(H)

打印件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1000(L)x700(W)x1600(H)mm³

機(jī)器外形尺寸：600(L)x580(W)x750(H)mm³

重量：300kg

電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW

nano Arch S140產(chǎn)品規(guī)格：

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：光敏樹(shù)脂

光學(xué)精度：10μm

XY打印精度：10-40μm

打印層厚；10-40μm

打印樣品尺寸：模式1：19.2mm(L)x10.8mm(W)x45mm(H)

模式2：94mm(L)x52mm(W)x45mm(H)

模式3：94mm(L)x52mm(W)x45mm(H)

打印件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1000(L)x700(W)x1600(H)mm³

機(jī)器外形尺寸：600(L)x580(W)x750(H)mm³

重量：300kg

電氣要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW

打印材料：

。標(biāo)準(zhǔn)型：硬性光敏樹(shù)脂

。個(gè)性化：405nm固化波段的光敏樹(shù)脂材料，支持透明樹(shù)脂，柔性樹(shù)脂，硬性樹(shù)脂，納米顆粒摻雜復(fù)合樹(shù)脂，韌性樹(shù)脂，生物醫(yī)療樹(shù)脂，需適配不同的工藝和模型（不保證打印性能）。

。韌性樹(shù)脂（T-160-50 系列）

。生物醫(yī)療樹(shù)脂（B-160-50 系列）

系統(tǒng)特性：

。高精度

。低層厚

。光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)

。自動(dòng)對(duì)焦功能

。高打印質(zhì)量

。優(yōu)良的光源穩(wěn)定性

。完善的配套設(shè)備及組件