詳細介紹
JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng):
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
產(chǎn)品規(guī)格:
拼接精度 | ≦±3.8 nm |
套刻精度 | ≦±7 nm |
產(chǎn)品特點:
· JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。
· 的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。
· 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復(fù)式的光刻系統(tǒng)
· 利用步進重復(fù)式曝光的優(yōu)點,結(jié)合曝光劑量調(diào)整功能及重疊曝光等功能,能支持下一代掩模版/中間掩模版(mask/reticle)圖形制作所需要的多種補償。