日本JEOL JBX-9500FS　電子束光刻系統(tǒng)

JBX-9500FS　電子束光刻系統(tǒng)

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發(fā)及生產(chǎn)。

產(chǎn)品規(guī)格：

產(chǎn)品特點：

· JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發(fā)及生產(chǎn)。

· 此外，由于具有100MHz的掃描速度，場尺寸在1000µm×1000µm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm、寫場內位置精度達±9nm，是兼具高水準產(chǎn)出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統(tǒng)。

· 由于采用的位置偏轉DAC為20位，掃描DAC為14位，能獲得0.25nm的掃描步距，分辨率更高，描畫數(shù)據(jù)增長1nm，可以更忠實地再現(xiàn)描畫數(shù)據(jù)。

· 達到100ＭＨｚ的高速化掃描速度，保證了大電流描畫時的掃描步距很短，因而能提高對精度要求*的圖形描畫的產(chǎn)出量。

· 由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的最小定位單位及高分辨率，達到了高水準的位置精度。

· 本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能)，實現(xiàn)了可信賴的長時間穩(wěn)定地描畫。自動補償可以根據(jù)時間（任意的）、場和圖形進行分別設定，非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。

· 該系統(tǒng)能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版，適合于納米壓印、光子器件、通信設備等各種領域的研發(fā)及生產(chǎn)。采用材料卡匣傳送系統(tǒng)（選配），最多可裝載10個卡匣。

· 利用微間距控制程序（場尺寸微調程序）可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。