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ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng)

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  • ELS-BODEN  新型電子束光刻系統(tǒng)

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更新時(shí)間:2021-07-22 20:25:34瀏覽次數(shù):226

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產(chǎn)品簡介

ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)

詳細(xì)介紹

NEW ELS-BODEN Electron Beam Lithography System

新型ELS-BODEN 電子束光刻系統(tǒng)

ELS Series

ELS-BODEN Ó
Fastest in the industry!

業(yè)內(nèi)!
High speed scanning at 400MHz clock frequency for production

高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)

Key Product Features

關(guān)鍵產(chǎn)品特性Fastest in the industry!

• The industry's fastest 400 MHz high speed scanning

業(yè)界的400mhz高速掃描
High speed beam scanning, 4 times faster than our previous products.

高速光束掃描,比我們以前的產(chǎn)品快4倍。
High current and narrow beam pitch, which was not possible until now.

大電流和窄波束間距,這是不可能的,直到現(xiàn)在。
The new system achieves faster and higher quality writing. It is ideal for the MPWS (field-polymerized writing).
新系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)更快和更高質(zhì)量的刻寫。它是MPWS(現(xiàn)場聚合刻寫)的理想選擇。
• Faster stage speed

階段的速度更快
Redesigned the stage to meet the demands of production applications and achieved higher speeds.

重新設(shè)計(jì)了工作臺,以滿足生產(chǎn)應(yīng)用的要求,并實(shí)現(xiàn)了更高的速度。

• Inherits traditional Elionix technology

繼承了傳統(tǒng)的Elionix技術(shù)
150kV/125kV if the ultra-fine patterns are most important.

150kV/125kV如果超細(xì)圖案是最重要的。
100 kV for common system and wide variety of applications

100kv用于普通系統(tǒng)和廣泛的應(yīng)用
50 kV for high speed writing for the production.

50kv用于高速寫作,用于生產(chǎn)。
It can meet user's several requirements.

能滿足用戶多方面的要求。

Specification 規(guī)格參數(shù):

Emitter發(fā)射器

ZrO/W thermal field emitter熱場發(fā)射體

Acceleration Voltage 加速電壓

50kV

100kV

125kV

150kV

Beam Current 電子束電流

1nA to 1µA

20pA to 100nA

5pA to 100nA

5pA to 100nA

Minimum Beam Diameter 最小電子束直徑

Φ5nm

Φ1.8nm

Φ1.7nm

Φ1.5nm

Standard Field Size 標(biāo)準(zhǔn)寫場直徑

1000µm square

1000µm square

500µm square

500µm square

Min. / Max. Field size 最小/寫場尺寸

Min. 100µm square
Max. (option) 3000µm square

Scan Clock 掃描頻率

Max. 400MHz

Minimam Shot Pitch 最小投射距離

0.2nm

Maximum Specimen Size樣品尺寸

8" wafer / 12" wafer

Maximum Exposure Area 曝光面積

200mm × 200mm / 300mm × 300mm

Loading System

加載系統(tǒng)

Single cassette auto loader
Multiple cassette auto loader
12" FOUP Robot loader
Robot loader with PEB
Variable wafer size robot loader

單盒式自動(dòng)裝載機(jī)

多盒式自動(dòng)裝載機(jī)

12" FOUP 機(jī)器人裝載機(jī)

帶PEB的機(jī)器人裝載機(jī)

可變晶片尺寸的機(jī)器人裝載機(jī)

Software 軟件

elms

• Beam conditions
• Exposure schedule
• Pattern data converter
• Account management
• Python scripting

•電子束條件

接觸的時(shí)間表

•圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器

•賬戶管理

•Python腳本

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