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詳細(xì)介紹
μMLA桌面無(wú)掩模光刻機(jī)
桌面型光刻機(jī)μMLA 技術(shù)參數(shù)
| 直寫(xiě)模式 I* | 直寫(xiě)模式 II* | |||||||||||||||
| 寫(xiě)入性能（光柵掃描和矢量曝光模式） | ||||||||||||||||
| 最小結(jié)構(gòu)尺寸 [μm] | 0.6 | 1 | ||||||||||||||
| 最小線寬/線隙 [半寬, μm] | 0.8 | 1.5 | ||||||||||||||
第二層對(duì)準(zhǔn) 大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm] | 500 | 500 | ||||||||||||||
第二層對(duì)準(zhǔn) 大于 50 x 50 mm2 [3σ, nm] | 1000 | 1000 | ||||||||||||||
| 直寫(xiě)性能 光柵掃描曝光模式 | ||||||||||||||||
| 線寬變代 [3σ, nm] | 200 | 300 | ||||||||||||||
| 直寫(xiě)速率 [mm2/min] | 10 | 30 | ||||||||||||||
可選“可變分辨率光柵掃描曝光模塊”的寫(xiě)入速度(UMVAR)， 適用于不同最小結(jié)構(gòu)尺寸。 | 10 mm²/min at 0.6 µm | 30 mm²/min at 1 µm | ||||||||||||||
20 mm²/min at 1 µm | 60 mm²/min at 2 µm | |||||||||||||||
25 mm²/min at 2 µm |
100 mm²/min at 4 µm | |||||||||||||||
| 矢量曝光模式的直寫(xiě)寫(xiě)性能 | ||||||||||||||||
| 矢量模式下的地址網(wǎng)格 [nm] | 20 | 20 | ||||||||||||||
| 邊緣粗糙度 [3σ, nm] | 30 | 50 | ||||||||||||||
| 線寬變化 [3σ, nm] | 70 | 80 | ||||||||||||||
| 線性直寫(xiě)速率 | 200 mm/s | 200 mm/s | ||||||||||||||
| 系統(tǒng)參數(shù) | ||||||||||||||||
| 襯底尺寸 | 5″ x 5″ | 5″ x 5″ | ||||||||||||||
| 最小襯底尺寸 |
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| 基板厚度 | 0.1 to 12 mm | 0.1 to 12 mm | ||||||||||||||
| 光柵掃描模塊 | 矢量曝光模塊 | |||||||||||||||
| 光源 | LED; 390 nm or 365 nm | Laser; 405 nm and/or 375 nm | ||||||||||||||
系統(tǒng)尺寸(光刻單元)
| µMLA | Width | Depth | Height | Weight |
| 主機(jī) | 630 mm (25″) | 800 mm (31.5″) | 530mm (21″) | 100 kg (220 lbs) |
| 可選配防振表 | 1400mm (55″) | 700 mm (28″) | 750 mm (30″) | 350 kg (770 lbs) |
無(wú)掩模光刻機(jī)于2015年推出。從那時(shí)起，的無(wú)掩膜技術(shù)已經(jīng)確立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置設(shè)置精確到您的需要與光柵掃描和矢量掃描模式(或兩者)和可變分辨率的記錄磁頭。
在許多應(yīng)用中，傳統(tǒng)的光掩膜已經(jīng)成為過(guò)去，因?yàn)槟愕脑O(shè)計(jì)文件是通過(guò)二維空間光直接暴露在電阻涂層晶圓上的調(diào)制器(SLM)。µMLA是MLA100的直接繼承者，是“小”MLA150，是我們*的無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)器的兄弟，它是許多多用戶設(shè)備、納米制造實(shí)驗(yàn)室和國(guó)家研究所中值得信賴、*的主力。
在我們?nèi)碌娜腴T級(jí)系統(tǒng)µMLA的開(kāi)發(fā)過(guò)程中，我們引入了諸如可變解決方案等新特性，并創(chuàng)建了一個(gè)靈活且高度可定制的桌面系統(tǒng)。當(dāng)然，小樣本處理很簡(jiǎn)單。µMLA功能所有在我們以前的桌面系統(tǒng)，同時(shí)提供更多的選擇和更高的性能比以往任何時(shí)候。
應(yīng)用包括研究和發(fā)展的領(lǐng)域，如MEMS，微流體，微光學(xué)和所有其他領(lǐng)域，負(fù)擔(dān)得起，緊湊，和強(qiáng)大的模式基因rator微結(jié)構(gòu)是必需的。
APPLICATIONS 應(yīng)用程序
微光學(xué):二元衍射光學(xué)元件。設(shè)計(jì)由1個(gè)µm²正方形組成。
μMLA提供了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的灰度模式，這可以制造低創(chuàng)造的微鏡頭。防蝕膠：15 μm厚AZ4562。節(jié)距30 μm，曲率半徑16 μm。
CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA
兩種曝光模式
μMLA可以讓你選擇光柵掃描曝光模式和矢量模式，或者甚至在同一個(gè)系統(tǒng)上運(yùn)行曝光模式! 光柵掃描曝光模式快速，并提供優(yōu)秀的圖像質(zhì)量和保真度，而寫(xiě)入時(shí)間獨(dú)立于結(jié)構(gòu)尺寸或圖案密度。矢量掃描模式可以幫助暴露由曲線組成的設(shè)計(jì)，當(dāng)需要平滑的輪廓。雖然矢量模式產(chǎn)生的圖像質(zhì)量與光柵掃描曝光模式相似，但它不能達(dá)到同樣的寫(xiě)入速度，特別是對(duì)于高填充系數(shù)的模式。
A Choice of Wavelengths 波長(zhǎng)的選擇
因此，你可以在一個(gè)系統(tǒng)上使用多達(dá)三個(gè)不同波長(zhǎng)(LED和/或激光二極管)。
Variable Resolution 可變分辨率
我們新開(kāi)發(fā)的可變分辨率函數(shù)允許您為一個(gè)部分的編寫(xiě)模式選擇三種不同的分辨率。只需在軟件菜單中選擇解決方案，并為您的應(yīng)用程序優(yōu)化參數(shù)。
The Surface at One Glance
可選的概述相機(jī)提供了一種簡(jiǎn)單的方法來(lái)定位對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或其他特征感興趣的基板上。
Small Sample Handling 小樣本處理
小樣品處理是直接與μMLA: 光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦選項(xiàng)允許準(zhǔn)確曝光，直到樣品的邊緣。
5 mm x 5 mm |
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