前沿的實(shí)驗(yàn)室科學(xué)研究?jī)x器和設(shè)備，不僅有助于加快科學(xué)研究的進(jìn)程，也為未來(lái)的學(xué)術(shù)成果和企業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。一起來(lái)看看 2024 年必投資的 6 大科學(xué)研究?jī)x器，你錯(cuò)過(guò)了哪些？

1.掃描電鏡 — 不可（buke）或缺的表征工具

Phenom 飛納臺(tái)式掃描電鏡

在當(dāng)今科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用中，掃描電子顯微鏡與能譜儀已成為材料實(shí)驗(yàn)室常見(jiàn)的表征工具。荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡（Phenom）以其前沿技術(shù)和用戶友好的設(shè)計(jì)，被 1500+ 用戶認(rèn)可，成為科研和工業(yè)研發(fā)高效、精確材料微觀表征與分析的選擇。

2024 年，為您的材料實(shí)驗(yàn)室增購(gòu)飛納臺(tái)式掃描電鏡，揭開(kāi)材料微觀世界的奧秘，加速科學(xué)發(fā)現(xiàn)和技術(shù)創(chuàng)新的步伐。

為什么選擇飛納臺(tái)式掃描電鏡？

1）小巧的體積

相比于傳統(tǒng)的大型掃描電鏡，荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡的顯著特點(diǎn)是其緊湊的設(shè)計(jì)。這意味著它不僅占用空間小，而且安裝和部署的靈活性大大增加，即便是在空間有限的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中也能輕松安置。

2）高效的性能

盡管體積小巧，荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡卻能提供與大型掃描電鏡相媲美的高分辨率成像能力（優(yōu)于1.5nm）。此外，其快速成像（30 秒內(nèi)完成）和快速抽真空（15 秒完成）的特性，使得樣品的觀察和分析過(guò)程更加高效。

3）電鏡能譜一體機(jī)

能譜軟硬件集成，使得能譜分析工作更為簡(jiǎn)單、直接、高效。

4）易用的操作

飛納電鏡通過(guò)自動(dòng)化，大幅簡(jiǎn)化了操作流程，即便是非專業(yè)人員也能在短時(shí)間內(nèi)掌握使用方法，大幅降低了用戶的學(xué)習(xí)成本和操作難度。

荷蘭飛納臺(tái)式掃描電鏡——清華大學(xué)、北京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、上海交通大學(xué)、中科院等頂尖高校科研單位，以及寧德時(shí)代、比亞迪、巴斯夫、微軟、羅氏、默克等企業(yè)的共同選擇。

2.臺(tái)式顯微 CT——人無(wú)我有，搶占先機(jī)

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT，通過(guò)精細(xì)的機(jī)械系統(tǒng)及創(chuàng)新的圖像重建算法，在臺(tái)式機(jī)的體積下實(shí)現(xiàn)了 2μm 的高空間分辨率。臺(tái)式顯微 CT 不僅實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品的無(wú)損檢測(cè)，更以其作為一種相對(duì)較新的表征手段在科研和工業(yè)界中獨(dú)樹(shù)一幟。這種新穎性本身就是其顯著的優(yōu)勢(shì)之一，為那些尋求突破傳統(tǒng)研究方法限制的科學(xué)家和工程師們開(kāi)辟了新的視野。

2024 年，為您的材料實(shí)驗(yàn)室增購(gòu) NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT，意味著獲得了"人無(wú)我有"的技術(shù)優(yōu)勢(shì)，助您在科學(xué)研究和技術(shù)創(chuàng)新的競(jìng)賽中占據(jù)先機(jī)，迎來(lái)更多的創(chuàng)新和突破。

新穎性帶來(lái)的優(yōu)勢(shì)

1）填補(bǔ)技術(shù)空白

在許多研究領(lǐng)域，傳統(tǒng)的表征手段或許難以提供足夠的信息或可能對(duì)樣品造成破壞。NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 的無(wú)損和三維成像能力，提供了一種全新的解決方案，使得研究人員能夠探索材料的內(nèi)部世界，提升研究成果的影響力和可見(jiàn)度。

2）推動(dòng)創(chuàng)新研究

作為一種新興的表征技術(shù)，NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 為科學(xué)研究和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)提供了新的可能性。它鼓勵(lì)科學(xué)家和工程師跳出傳統(tǒng)思維的框架，探索和實(shí)驗(yàn)新的研究方法與應(yīng)用途徑。

3）多維度參數(shù)分析

通過(guò)對(duì) CT 圖像數(shù)據(jù)的深入分析，研究人員可以從中提取出樣品的多種物理和幾何參數(shù)，如體積、表面積、孔隙率、纖維取向等。這種多維度的定量信息對(duì)于理解材料的性能和行為具有重要意義。

4）應(yīng)用領(lǐng)域的拓展

隨著科研和工業(yè)界對(duì) NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 技術(shù)認(rèn)識(shí)的不斷深入，其應(yīng)用領(lǐng)域正迅速擴(kuò)展。從對(duì)高性能材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析，到在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域?qū)墙M織的細(xì)致觀察，再到考古學(xué)中珍貴文物的無(wú)損檢測(cè)，NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 都展現(xiàn)出了其獨(dú)到的價(jià)值和潛力。

NEOSCAN 臺(tái)式顯微 CT 作為一種比較新的表征手段，不僅因其無(wú)損檢測(cè)能力而受到重視，更因其新穎性和應(yīng)用價(jià)值而成為科研和工業(yè)界的寶貴資產(chǎn)。

3. 原位實(shí)驗(yàn)樣品桿——開(kāi)啟原位納米/原子級(jí)分析新時(shí)代

DENSsolutions TEM 原位樣品桿

傳統(tǒng)透射電子顯微鏡 (TEM) 主要用于成像材料結(jié)構(gòu)，近年來(lái)球差等技術(shù)使其達(dá)到原子分辨率。然而，它們無(wú)法模擬真實(shí)環(huán)境（加熱、氣體、液體等），限制了應(yīng)用價(jià)值。DENSsolutions 的原位透射電鏡技術(shù)突破了這一瓶頸！利用微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS) 技術(shù)，在 TEM 內(nèi)實(shí)時(shí)模擬真實(shí)應(yīng)用環(huán)境，將電鏡從靜態(tài)成像工具變身為多功能實(shí)驗(yàn)室。

DENSsolutions，助力您引yin領(lǐng)納米科技前沿！

In-situ TEM原位透射電鏡優(yōu)勢(shì)

1）真實(shí)環(huán)境

模擬冷凍、加熱、加電、氣體、液體等，觀察材料在真實(shí)條件下的行為。

2）多功能分析

不僅成像，還能測(cè)量性能、評(píng)估表現(xiàn)、優(yōu)化工藝。

3）一站式平臺(tái)

集成所有研發(fā)階段，解鎖研究能力。

應(yīng)用領(lǐng)域:

• 電池研究：觀察電池材料在工作條件下的變化，開(kāi)發(fā)新型電池。

• 催化研究：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)催化劑活性位，設(shè)計(jì)高效催化劑。

• 材料科學(xué)：探索材料在真實(shí)環(huán)境下的微觀行為，研發(fā)新型材料。

4.SEM/TEM 樣品制備——掃描電鏡/透射電鏡制樣

Technoorg Linda 離子束技術(shù)

Technoorg Linda 提供專業(yè)的樣品制備解決方案。 產(chǎn)品通過(guò)超高能氬離子槍和低能氬離子槍，對(duì)樣品進(jìn)行無(wú)損研磨，精細(xì)加工以及最終精修。具體包括SEM樣品制備（SEMPrep2），F(xiàn)IB樣品精修（Gentle Mill），TEM 樣品制備（Unimill）等產(chǎn)品。這些產(chǎn)品與所有品牌的電子顯微鏡兼容，涵蓋從機(jī)械樣品制備到離子研磨和最終精修的整個(gè)減薄過(guò)程。適用于材料科學(xué)、生物研究、地質(zhì)學(xué)、半導(dǎo)體和光學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。

• SEMPrep2 氬離子研磨儀 —— 掃描電鏡樣品的高質(zhì)量表面精密處理設(shè)備

• Gentle Mill 離子精修儀 —— 用于制備高質(zhì)量 TEM/FIB 樣品的離子束工作站

• Unimill 離子減薄儀 —— 用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動(dòng)離子束減薄系統(tǒng)

5.原子層沉積包覆——PALD

Forge Nano 粉末原子層沉積包覆

Forge Nano 粉末包覆技術(shù)是一種基于原子層沉積（ALD）的表面涂層技術(shù)。它可在納米尺度上實(shí)現(xiàn)對(duì)粉末顆粒的均勻和精確涂層包覆，提高材料的性能和穩(wěn)定性。Forge Nano 的粉末包覆技術(shù)在催化劑、電池材料、陶瓷材料等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，為這些領(lǐng)域的研究和工業(yè)生產(chǎn)提供了涂層解決方案。

6.納米顆粒制備——納米氣溶膠沉積系統(tǒng)

VSParticle 納米顆粒制備&印刷沉積系統(tǒng)

VSParticle 火花燒蝕納米氣溶膠沉積系統(tǒng)可用于 MEMS 制造氣體傳感器氣敏涂層，電催化劑涂層的制備，是為數(shù)不多可以在常壓狀態(tài)下制備 20nm 以下納米粒子的氣相沉積方法。目前已在浙江大學(xué)，東南大學(xué)，北京工業(yè)大學(xué)，中科院物理所，中南大學(xué)，廣東工業(yè)大學(xué)等學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)以及企業(yè)裝機(jī)。火花燒蝕沉積技術(shù)已被眾多學(xué)者證明，在 Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發(fā)表相關(guān)文章，是新型納米制造的利器。