混懸劑膠體磨，高剪切膠體磨,混懸劑研磨分散機(jī),混懸劑研磨 混懸劑（suspensions）系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之間，小的微?？蔀?.1μm，大的微?？蛇_(dá)50μm或更大。混懸劑的分散介質(zhì)多為水，也有用植物油。混懸劑屬于熱力學(xué)不穩(wěn)定的粗分散體系。
混懸劑膠體磨，高剪切膠體磨 混懸劑
混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面，微粒的分散度較大，使混懸微粒具有較高的表面自由能，故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑，存在更大的穩(wěn)定性問(wèn)題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問(wèn)題，以及提高穩(wěn)定性的措施。
（一）混懸微粒的沉降
混懸劑中的微粒由于受重力作用，靜置后會(huì)自然沉降，其沉降速度服從Stokes定律：
按Stokes定律要求，混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外，在沉降過(guò)程中微粒電荷的相互排斥作用，阻礙了微粒沉降，故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見(jiàn)，混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比，與分散介質(zhì)的粘度成反比?；鞈椅⒘３两邓俣扔?，混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定性就愈小。
為了使微粒沉降速度減小，增加混懸劑的穩(wěn)定性，可采用以下措施：①盡可能減小微粒半徑，采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是zui有效的一種方法。②加入高分子助懸劑，既增加了分散介質(zhì)的粘度，又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差，同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面，形成保護(hù)膜，增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等，減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差，同時(shí)也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低，有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒zui終總是要沉降的，只是大的微粒沉降稍快，細(xì)小微粒沉降速度較慢，更細(xì)小的微粒由于布朗運(yùn)動(dòng)，可長(zhǎng)時(shí)間混懸在介質(zhì)中。
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間，研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
- 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
- 轉(zhuǎn)子的線速率
- 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
混懸劑膠體磨
所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。
CM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
具體設(shè)備咨詢： 陶國(guó)偉 廣州辦，
體磨選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CM 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM 2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM 2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
CM 2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM 2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM 2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
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