脫硝/脫二噁英催化劑研磨分散機，脫硝/脫二噁英催化劑膠體磨

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分子篩使用上海依肯機械的高速剪切研磨分散機目前已在青島、瀘州、重慶、北京、山東等地大量使用

 脫二噁英催化劑的制備方法，以二氧化鈦（即鈦bai粉）、硅粉為載體，以偏鎢酸銨、偏釩酸銨、硝酸鈰和硝酸鑭為活性組分，在輔料伴隨下，經(jīng)過混煉、研磨分散、成型、干燥、焙燒制成；其中所述輔料包括一乙醇胺、檸檬酸、氨水、乳酸、硬脂酸、玻璃纖維、高分子聚合纖維RP-CHOP、羥丙基甲基纖維素、聚氧化乙烯和水。本發(fā)明制備的催化劑可以起到同時分解氮氧化物和二噁英的目的。同時提高現(xiàn)有煙氣控制設備對汞的脫除效率。不僅適用于新建電廠，也適合老電廠的濕法脫硫裝置的改造，燃煤電廠可利用本發(fā)明的催化劑將80%~95%的Hg0氧化成Hg2+，利用除塵裝置除去絕大部分顆粒態(tài)Hg2+。

分子篩是一類具有規(guī)則可調(diào)變均勻孔徑的多孔材料，具有很大的比表面積和孔容。對多種氣體有非常好的吸附性能。分子篩具有規(guī)整的孔道結(jié)構(gòu)，已被作為催化材料、氣體分離與吸附劑、離子交換劑等廣泛用于石油與天然氣加工、精細化工、環(huán)保與核廢料處理等領域。具有更好的熱穩(wěn)定性和水熱穩(wěn)定性。

在工業(yè)上，孔隙率高且通常用于氣體或蒸氣混合物分離的吸附劑主要有沸石分子篩、活性炭、活性粘土、硅膠及插性氧化鋁。

沸石分子篩是結(jié)晶硅鋁酸鹽，以其規(guī)整的晶體結(jié)構(gòu)、均勻*的孔分布和可調(diào)變的表面性質(zhì)在吸附分離領域得到廣泛應用。它在氣體分離過程中備受歡迎的一些*性能是：

A. 晶體三維微孔結(jié)構(gòu)賦予其很高的熱穩(wěn)定性和水熱穩(wěn)定性；

B. 與活性炭等吸附劑不同，其孔結(jié)構(gòu)均勻*，孔大小分布單一；

c．通過不同骨架外陽離子交換，可以調(diào)變其孔的尺寸；

d．通過改變骨架硅鋁比，可調(diào)變其表面極性；

e．與其它類型吸附劑相比，即使在較高的溫度和較低的吸附質(zhì)分壓下，仍有較高的吸附容量。

硅鋁酸鹽分子篩膠體磨,硅鋁酸鹽分子篩膠體磨,硅鋁酸鹽膠體磨粉碎效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

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線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

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粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。 

IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果

為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下，我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點，也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。

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   根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎上又開發(fā)了一款CMS2000高速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。

       超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

       CMS2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
超高速膠體磨材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速膠體磨選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
超高速膠體磨表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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