污水除臭設(shè)備技術(shù)原理

低溫等離子體技術(shù)

Low temperature plasma technology

產(chǎn)品簡介

采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質(zhì)時，等離子體中的高能離子起決定性的作用。流星雨狀的高能等離子與介質(zhì)發(fā)生非彈性碰撞，將能量轉(zhuǎn)化成基態(tài)介質(zhì)的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過程是污染介質(zhì)處于活化狀態(tài)。污水除臭設(shè)備技術(shù)原理污水除臭設(shè)備技術(shù)原理

污染介質(zhì)在等離子體的作用下，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學(xué)反應(yīng)后被脫離。當(dāng)離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學(xué)鏈結(jié)合能時，分子鏈段裂，污染介質(zhì)分解，并在等離子發(fā)生器吸附場的作用下被收集。在低溫等離子體中，可能由污染介質(zhì)成分決定發(fā)生的各類化學(xué)反應(yīng)，這主要取決于等離子的平均能量、離子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)濃度及共存的介質(zhì)成分。

污染介質(zhì)在等離子體的作用下，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學(xué)反應(yīng)后被脫除。當(dāng)離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學(xué)鍵結(jié)合能時，分子鏈斷裂，污染介質(zhì)分解，并在等離子發(fā)生器吸附場的作用下被收集。在低溫等離子體中，可能發(fā)生各類型的化學(xué)反應(yīng)，這主要取決于等離子的平均能量、離子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分。對氣態(tài)有機污染物的降解機理。從凈化空氣效率考慮，我們選擇了電暈電流較高化裝置采用脈沖電暈放電低溫等離子體與吸附技術(shù)相結(jié)合的原理對有害氣體進行消除，其中低溫等離子體主要用來去除硫化氫、氨、丙酮、尿烷、樹脂、等氣體及消毒滅菌，吸附材料主要用于去除二氧化碳以及臭氧等副產(chǎn)物。凈化裝置 由 初 濾單元、低溫等離子體發(fā)生器及過濾單元、風(fēng)機等設(shè)備和其他部件組成。

技術(shù)優(yōu)勢

能有效解決大氣污染，改善作業(yè)環(huán)境空氣質(zhì)量；

運行程序化、智能化，可連續(xù)運行或間斷式運行；

從根本上消除污染；

不產(chǎn)生臭氧，對呼吸系統(tǒng)無刺激；對管道及設(shè)備無腐蝕性，并對儀器表有保護作用；

離子濃度可控、可測；可根據(jù)治理對象的需求升級；

離子風(fēng)直接覆蓋在污染源表面與污染物充分反應(yīng)，因此減少換氣次數(shù)，降低能耗（離子發(fā)生裝置能耗僅為幾十瓦至幾百瓦、產(chǎn)生的空氣阻力僅為幾十帕）；

設(shè)備可依附于通風(fēng)系統(tǒng)上，不需要占用空間場地，；

操作維護簡單，零配件更換方便，無需專人值守；

主要設(shè)備和部件*，設(shè)備壽命長（離子管使用壽命 2萬小時以上，主體設(shè)備使用年限 15 年以上）。

適用范圍

    食品加工業(yè)、污水泵站、低廢體濃度的市政行業(yè)、電腦機房、電子工業(yè)等。

UV光解催化氧化工藝流程

廢氣通過風(fēng)機輸送至裝置內(nèi)，在裝置產(chǎn)生的強氧化性物質(zhì)（臭氧）和紫外線及催化劑的作用下，被迅速裂解、氧化、降解成低分子化合物、水和二氧化碳，降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在后的堿吸收化學(xué)塔中被洗滌除去，實現(xiàn)達標排放。

UV先解催化氧化裝置

裝置為固定式全封閉箱體結(jié)構(gòu)，由裝置殼體、紫外線燈管、催化劑、電氣控制部分等組成。

買設(shè)備，請認準正規(guī)生產(chǎn)廠家，請注意一下幾點：

1、廠房的生產(chǎn)能力：是不是有生產(chǎn)車間，具備生產(chǎn)能力

2、生產(chǎn)資質(zhì)：國家認定的設(shè)備生產(chǎn)資質(zhì)，達到國家處理標準

3、產(chǎn)品價格：我們是專業(yè)生產(chǎn)廠家，批發(fā)價出售，走量。皮包公司或者小作坊會高價格出售，賺取*