產(chǎn)品名稱:太倉中新寶新研發(fā)KZ系列蒙脫石研磨機(jī),蒙脫石研磨機(jī),高粘土研磨機(jī),粘土研磨機(jī),凹凸棒研磨機(jī),太倉ZKE新研發(fā)蒙脫石超細(xì)研磨機(jī)
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蒙脫石是一種由人藥演變?yōu)楂F藥的品種,對(duì)動(dòng)物止瀉的效果也,并且安全綠色。蒙脫石源于大自然,又回歸大自然,對(duì)大自然沒有破壞,是對(duì)環(huán)境友善的物質(zhì)。蒙脫石是天然的層狀硅酸鹽納米材料,每層厚度僅1 nm,顆粒細(xì)小,比表面積巨大,每立方毫米(半個(gè)米粒)能容納三千億個(gè)顆粒,每克粉劑就能覆蓋110平米的籃球場大小的消化道表面,可加強(qiáng)黏膜屏障的作用;加上蒙脫石的不均勻電荷特性,基本層中帶負(fù)電,層間帶正電,使得蒙脫石具有強(qiáng)大的靜電吸附能力,可吸附固定抑制多種病毒、病菌,平衡正常菌群,提高消化道的免疫功能。
材料達(dá)到納米尺度以后會(huì)表現(xiàn)出很多.. 納米尺寸效應(yīng).., 以零維的微觀顆粒來講, 當(dāng)顆粒尺寸達(dá)到納米尺度以后, 其團(tuán)聚效應(yīng)顯著增加, 團(tuán)聚體內(nèi)顆粒的相互吸引力也顯著增大, 分散難度變大。傳統(tǒng)的研磨機(jī)對(duì)納米級(jí)蒙脫石進(jìn)行分散時(shí),很難真正均勻?qū)⒚擅撌稚㈤_來。新的工藝方式是應(yīng)用蒙脫石研磨機(jī),高剪切研磨機(jī)KES2000系列進(jìn)行分散。
對(duì)于研磨機(jī)來說很大的一個(gè)目的就是要達(dá)到均質(zhì)的效果,那么從設(shè)備角度來說影響均質(zhì)效果的因素有哪些呢?
1、均質(zhì)頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、均質(zhì)頭的剪切速率(越大,效果越好)
3、均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4、物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化均質(zhì)時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)。
5、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
太倉中新寶自主研發(fā)生產(chǎn)的超細(xì)高剪切研磨機(jī),具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢,經(jīng)過ZKE全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了ZKE高剪切乳化機(jī)的提速問題。市場上一般使用的高剪切研磨機(jī)由于定轉(zhuǎn)子精度以及機(jī)械密封的原因,轉(zhuǎn)速 只能達(dá)到2910轉(zhuǎn),而ZKE新研發(fā)的立式分體式研磨機(jī)將轉(zhuǎn)速提高到16000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場的需求。
超細(xì)研磨機(jī),主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號(hào)的機(jī)器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴(kuò)大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DISPGRSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn),適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
參數(shù)表
型號(hào) | 流量L/H | 轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
KZSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
KZSD2000/5 | 1000 | 13500 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
KZSD2000/10 | 2000 | 9260 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
KZSD2000/20 | 5000 | 3664 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
KZSD2000/30 | 8000 | 1825 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
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